[發明專利]用于處理平面處理物的方法和設備以及用于去除或擋住處理液的裝置

有效

• 申請號: 201080021230.6
• 申請日: 2010-05-12
• 公開（公告）號: CN102422727A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 亨利·孔策;費迪南德·維納
• 申請（專利權）人: 埃托特克德國有限公司
• 主分類號: H05K3/00
• 分類號: H05K3/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王萍;陳煒

1.一種用于處理平面處理物(10)的方法，該處理物在用于對處理物(10)進行濕化學處理的設備中沿著輸送路徑被輸送，

其中處理物(10)在該設備中暴露于處理液(21)，以及

其中用于止回處理液(21)的止回面(4，14)定位在輸送路徑上，使得在處理物(10)經過止回面(4，14)時在止回面(4，14)與處理物(10)的表面之間留有間隙(8，18)。

2.根據權利要求1所述的方法，

其中止回面(4，14)構建在輥(51，52；84，85)上，使得間隙(8，18)在處理物(10)的整個有用區(11)上延伸，以及

其中借助與止回面(4，14)間隔設置的用于去除處理液的第二裝置(32；44，45)將通過在止回面(4，14)與處理物(10)的表面之間留有的間隙(8，18)的處理液從處理物(10)去除。

3.根據權利要求2所述的方法，其中

用于去除處理液的第二裝置(44，45)具有第二止回面，尤其是構建在第二輥(53，55，57，59)上的第二止回面，并且定位在輸送路徑上，使得在處理物(10)經過第二止回面時在第二止回面與處理物(10)的表面之間留有第二間隙。

4.根據權利要求2或3所述的方法，其中處理液在輥(51；84)的兩個側蓄積并且其中處理液(21)在間隙(8，18)的相反的側的水平差(74；97)被調節。

5.根據上述權利要求之一所述的方法，其中間隙(8，18)具有最小間隙高度(9，19)并且處理液(21)至少在止回面(4，14)的一側蓄積直至如下水平(22；71，72；91；121；136)：該水平高于間隙(8，18)的最小間隙高度(9，19)。

6.根據上述權利要求之一所述的方法，其中通過間隙(8，18)的處理液(21)借助入流處理物(10)的流體流從處理物(10)去除。

7.根據權利要求6所述的方法，其中用于去除處理液(21)的流體流(33)構建為使得其并不穿過間隙(8，18)。

8.根據上述權利要求之一所述的方法，其中止回面(4，14)構建在輥(2，3；51，52，53，55，57，59；84，85；102，103，；132-135)上。

9.根據權利要求8所述的方法，其中在輥(2，3；51，52，53，55，57，59；84，85；102，103；132-135)上設置至少一個輸送區段(5，6，15，16；105，107)，其與處理物(10)耦合以便輸送處理物(10)。

10.根據權利要求9所述的方法，其中輸送區段(5，15)相對于止回面(4，14)被轉動用于輸送處理物(10)。

11.根據上述權利要求之一所述的方法，其中處理液(21)在間隙(8，18)的相反的側的水平差(74；97)被調節。

12.根據上述權利要求之一所述的方法，其中止回面(4，14)被轉動為使得降低或抑制處理液(21)穿過間隙(8，18)。

13.根據上述權利要求之一所述的方法，其中處理液(21)借助止回面(4，14)在處理站中蓄積，使得處理物(10)在處理站中以浸漬到處理液(21)中的方式來輸送。

14.根據上述權利要求之一所述的方法，其中處理物(10)是膜狀材料，尤其是導體膜。

15.一種用于在對處理物(10)濕化學處理的設備中將處理液(21)從平面處理物(10)去除或擋住的裝置，

其中該裝置包括止回面(4，14)用于止回處理液(21)，并且構建為相對于處理物(10)的輸送路徑設置為使得該裝置在止回面(4，14)與沿著輸送路徑輸送的處理物(10)的表面之間構建間隙(8，18)。