[發(fā)明專利]低輻射玻璃及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080020074.1
• 申請日: 2010-07-12
• 公開（公告）號: CN102421719A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 田允淇;趙錦悉;裴一駿;黃承錫
• 申請（專利權(quán)）人: 樂金華奧斯有限公司
• 主分類號: C03C17/23
• 分類號: C03C17/23;C03C17/245
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11270
• 代理人: 武晨燕;遲姍

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及低輻射玻璃及其制造方法。

背景技術(shù)

低輻射玻璃(Low?emissivity?glass；Low-e?glass)作為輻射率低的玻璃，是指在玻璃表面涂敷特殊的膜，在夏天反射太陽輻射熱，而在冬天保存由室內(nèi)制熱機生成的紅外線，從而能夠帶來建筑物的節(jié)能效果的功能性玻璃。

以往，作為制造如上所述的低輻射玻璃的方法，主要使用在腔室內(nèi)注入氧氣來制成氧氣環(huán)境，并在氧氣環(huán)境下利用金屬靶物質(zhì)在低輻射層上蒸鍍氧化物薄膜的方法。

因此，通過上述現(xiàn)有的制造方法制造出的低輻射玻璃構(gòu)成為，在基板玻璃上依次蒸鍍了由金屬氧化物等構(gòu)成的第一電介質(zhì)層、由銀(Ag)等構(gòu)成的低輻射層、以及由金屬氧化物等構(gòu)成的第二電介質(zhì)層的形態(tài)。

但是，現(xiàn)有的低輻射玻璃，由于如上所述那樣在低輻射層上蒸鍍第二電介質(zhì)層時，在氧氣環(huán)境下，使用金屬來作為靶材，因此在注入于腔室內(nèi)的高氧氣分壓作用下，包含于低輻射層內(nèi)的導(dǎo)電性金屬也被氧化，造成低輻射層和第二電介質(zhì)層之間的混合，因而存在層間的界限變得模糊這樣的問題，此外，由于這種原因造成輻射率值顯著增高，存在喪失低輻射玻璃所應(yīng)具有的的功能的問題。

因此，為了解決上述問題，在上述低輻射層上蒸鍍電介質(zhì)層之前，先蒸鍍由金屬性鎳鉻構(gòu)成的底漆層，然后制成氧氣環(huán)境來在上述底漆層上蒸鍍電介質(zhì)層，以這種方式防止了低輻射層內(nèi)所含有的導(dǎo)電性金屬的氧化。

但是，在利用這種方法的情況下，雖然能夠通過防止低輻射層內(nèi)所含有的導(dǎo)電性金屬的氧化來維持低輻射率，但由于在上述低輻射層上還需蒸鍍底漆層，因此不僅隨著金屬薄膜厚度的增加，造成可視光透過率的減小，而且由于底漆層蒸鍍工序的增加，存在工序變得復(fù)雜，需要更多的費用這樣的問題。

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問題

為了解決上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種在低輻射層上不形成底漆層，而是直接形成電介質(zhì)層，來同時表現(xiàn)出優(yōu)秀的輻射率和高可視光透過率的有效的低輻射玻璃及其制造方法。

解決問題的手段

作為解決上述問題的方案，本發(fā)明提供一種低輻射玻璃，包括低輻射層以及形成于上述低輻射層上的電介質(zhì)層，輻射率為0.01至0.3，可視光透過率為70％以上。

并且，作為解決上述課題的另一方案，本發(fā)明提供一種低輻射玻璃的制造方法，包括如下的步驟：在真空條件下，利用金屬氧化物作為靶，來在低輻射層上直接蒸鍍電介質(zhì)層。

發(fā)明的效果

根據(jù)如上所述的本發(fā)明的低輻射玻璃及其制造方法，在不形成底漆層的情況下，也能夠防止低輻射層中所含有的功能性物質(zhì)的氧化，并形成電介質(zhì)層。由此，根據(jù)本發(fā)明中的低輻射玻璃，能夠同時維持優(yōu)秀的可視光透過率及輻射性能，并據(jù)此能夠確保低輻射玻璃的絕熱效果的提高及舒適的視野。

并且，根據(jù)本發(fā)明的低輻射玻璃的制造方法，能夠減少投資費用及資材費用，在工序效率方面同樣優(yōu)秀。

附圖說明

圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的實施例的低輻射玻璃的層結(jié)構(gòu)的簡要剖面圖。

圖2是表示根據(jù)現(xiàn)有的低輻射玻璃的制造方法，在氧氣環(huán)境下利用金屬作為靶，來在低輻射層上蒸鍍電介質(zhì)層而制造的低輻射玻璃的層間原子的分布的圖表。

圖3是表示根據(jù)本發(fā)明一實施例的低輻射玻璃的制造方法，在真空狀態(tài)的氬氣環(huán)境下利用金屬氧化物作為靶，來在低輻射層上蒸鍍電介質(zhì)層而制造的低輻射玻璃的層間原子的分布的圖表。

具體實施方式

本發(fā)明涉及低輻射玻璃，該低輻射玻璃包括低輻射層、以及形成于上述低輻射層上的電介質(zhì)層，輻射率為0.01至0.3，可視光透過率為70％以上。

以下，對本發(fā)明的低輻射玻璃進(jìn)行更為詳細(xì)的說明。

如上所述，本發(fā)明的低輻射玻璃包括低輻射層、以及形成于上述低輻射層上的電介質(zhì)層，輻射率為0.01至0.3，可視光透過率為70％以上。

在本發(fā)明中，“低輻射玻璃”作為節(jié)能型平板玻璃的一種，是指低輻射玻璃(low?emissivity?glass)，并且這種玻璃是指通過在一般平板玻璃上形成導(dǎo)電性優(yōu)秀的金屬或金屬氧化物薄膜，來在可視光線區(qū)域維持規(guī)定的透過特性，并且降低涂敷面的輻射率，提供優(yōu)秀的絕熱效果的玻璃。