[發明專利]宏觀物體表面包含至少一層反射薄膜的結構,制造結構的方法,及其用途

無效

• 申請號: 201080014773.5
• 申請日: 2010-04-07
• 公開（公告）號: CN102369464A
• 公開（公告）日: 2012-03-07
• 發明（設計）人: J·毛拉
• 申請（專利權）人: 貝尼科公司
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;G02B1/10;C23C16/455;C23C16/40
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 趙蓉民;陸惠中

發明領域

本發明涉及薄膜技術。具體地，本發明涉及包含用于調整表面光學性質的薄膜的結構。

發明背景

許多消費電器包含利用射頻(RF)內電磁波的功能。這些電器的實例包括移動電話、個人電腦、PDA、無線揚聲器等。在RF波傳播路徑中的導電部件或表面可能扭曲或完全阻止這些電器的正確運行。

然而，可能需要用這樣的涂層來調整這些電器或其它任何物體表面的光學性質，該涂層在可見光波長范圍內具有足夠高的鏡反射可見光反射率和足夠均勻和平的反射光譜(即足夠地獨立于波長的反射率)。能相對于從例如電器暴露的表面的可見光的鏡反射減少可見光的漫反射也可能是有利的。

在現有技術中，上述光學性質已使用金屬涂層獲得。例如鋁表面具有上述有用的光學性質的組合。然而，金屬表面的問題是它們是導電的。因此，在例如上述電器中，可以使用金屬涂層的區域可能被限制在這樣的區域，在該區域內涂層不扭曲RF波傳播或不引起電器的RF裝置的功能限制。此外，由于其導電性，金屬涂層可能不適于用于提供電絕緣的裝置或物體，或在該裝置或物體中不需要。

許多電器例如利用射頻(RF)內電磁波的電器的表面可能巨大或形狀復雜。現有技術中沉積反射膜的方法，例如化學蒸汽沉積法(CVD)或物理蒸汽沉積法(PVD)的問題是這些方法不能在這些或其它三維物體上或在大表面區域上沉積足夠均勻的薄膜。特別地，用這些沉積方法實現足夠均勻性的困難可能來自這樣的應用，在該應用中，沉積的膜必須在光學上均勻并在大的或復雜三維表面上具有均勻的厚度。

發明目的

本發明的目的是通過提供包含介電和反射膜的新型結構和在多種形狀的物體上構建包含介電和反射膜的結構的新方法，減少現有技術的上述技術問題，以增加從該物體表面鏡反射可見光波段內可見光的反射率。

發明概述

根據本發明的結構、方法和用途的特征如權利要求書所述。

根據本發明的結構的特征如獨立權利要求1所述。

根據本發明的方法的特征如獨立權利要求11所述。

根據本發明的用途的特征如權利要求21或22所述。

根據本發明的結構包含至少一層位于宏觀物體表面的反射薄膜。該宏觀物體的表面在沒有該至少一層反射薄膜時，反射可見光波段內少于50％的入射光并且是不透明的。此外，該宏觀物體表面有該至少一層薄膜時，從該宏觀物體表面的可見光反射在有效視角內基本上是在光譜上均勻的和平的。該至少一層薄膜是介電的并基本上對可見光(取決于定義，波長為約380nm至750nm)透明，并且該至少一層薄膜通過將該宏觀物體的表面暴露于兩種或更多種初級粒子(前體，precursor)的交替重復、基本上自限性的表面反應而構建，用于增加從該表面鏡反射可見光波段內可見光的反射率。

根據本發明的制造在宏觀物體表面上包含至少一層反射薄膜的結構的方法，包括通過將該表面暴露于兩種或更多種初級粒子的交替重復、基本上自限性的表面反應而將至少一層薄膜沉積在該表面上的步驟，在沒有該至少一層薄膜時，該宏觀物體的表面反射可見光波段內少于50％的入射光并且是不透明的，在該宏觀物體表面有該至少一層薄膜時，從該宏觀物體表面的可見光反射在有效視角內在光譜上基本上是均勻的和平的，該至少一層薄膜是介電的并基本上對可見光透明，用于增加從該表面鏡反射可見光波段內可見光的反射率。

根據本發明，該結構被用作增加從該宏觀物體表面鏡反射可見光波段內可見光的反射率的裝置。

根據本發明，制造該結構的方法被用作增加從該宏觀物體表面鏡反射可見光波段內可見光的反射率的方法。

在此背景下，“宏觀物體”應當被理解為可以用裸眼評估其外觀和光學性質(例如顏色或反射率)的物體。

在此背景下，“表面”應當被理解為裸眼可見的宏觀物體的表面。

在本發明的一種實施方式中，該宏觀物體的表面是三維的(3D)。

在本發明的一種實施方式中，該物體是非平的物體。

在此背景下，“薄膜”應當被理解為厚度在納米(nm)至數微米的分數的范圍內的膜。

折射率是波長的函數。在此背景下，表示折射率的值是在550nm可見光波長處折射率的值。