[發明專利]制造光波導芯部的方法、制造光波導的方法、光波導和光電復合配線板有效
| 申請號: | 201080014521.2 | 申請日: | 2010-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN102369467A | 公開(公告)日: | 2012-03-07 |
| 發明(設計)人: | 中芝徹;橋本真治;近藤直幸;八代潤子 | 申請(專利權)人: | 松下電工株式會社 |
| 主分類號: | G02B6/13 | 分類號: | G02B6/13;G02B6/43 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所 31210 | 代理人: | 丁利華 |
| 地址: | 日本國大阪*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制造 波導 方法 光電 復合 線板 | ||
1.一種制造具有傾斜端面的光波導芯部的方法,其特征在于,
所述方法包含:
芯部材料層形成步驟,在已經在襯底上形成的覆層的表面上形成由感光材料形成的芯部材料層;
高折射率物質覆蓋步驟,通過使具有高于1的折射率的物質與所述芯部材料層表面緊密接觸來利用所述高折射率物質覆蓋所述芯部材料層的表面;
曝光步驟,利用相對于覆層表面以預定角度傾斜的曝光的光,通過在覆蓋有所述高折射率物質的側上照射所述芯部材料層,對所述芯部材料層以預定芯部形成形狀進行圖案曝光從而形成芯部;
高折射率物質除去步驟,將所述高折射率物質從在所述曝光步驟中曝光的所述芯部材料層的所述表面上除去;和
顯影步驟,顯影所述芯部材料層以便形成具有傾斜端面的所述芯部,其中在所述高折射率物質除去步驟中已經從所述芯部材料層除去了所述高折射率物質。
2.如權利要求1所述的制造光波導芯部的方法,其特征在于,所述芯部材料層形成步驟為將由感光材料制成的感光膜附著到所述覆層的所述表面的步驟。
3.如權利要求2所述的制造光波導芯部的方法,其特征在于,所述高折射率物質為液體,并且所述高折射率物質覆蓋步驟為將所述芯部材料層浸入所述高折射率物質中的步驟。
4.如權利要求1或者2所述的制造光波導芯部的方法,其特征在于,所述高折射率物質為具有相對于所述覆層表面傾斜的面的結構,并且所述高折射率物質覆蓋步驟為使得所述結構與所述芯部材料層緊密接觸的步驟。
5.如權利要求1至4中任意一個所述的制造光波導芯部的方法,其特征在于,所述曝光的光是由相對于所述覆層表面具有不同角度的至少兩種類型的光形成的。
6.如權利要求1至5中任意一個所述的制造光波導芯部的方法,其特征在于,所述感光材料為包含雙酚型環氧樹脂和陽離子光固化劑的樹脂組合物。
7.一種制造光波導的方法,所述光波導含有具有傾斜端面的光波導芯部,其特征在于,
所述方法包含:
芯部材料層形成步驟,在已經在襯底上形成的第一覆層的表面上形成由感光材料形成的芯部材料層;
高折射率物質覆蓋步驟,通過使具有高于1的折射率的物質與所述芯部材料層表面緊密接觸來利用所述高折射率物質覆蓋所述芯部材料層的表面;
曝光步驟,利用相對于所述第一覆層表面以預定角度傾斜的曝光的光,通過在覆蓋有所述高折射率物質的側上照射所述芯部材料層,對所述芯部材料層以預定芯部形成形狀進行圖案曝光從而形成芯部;
高折射率物質除去步驟,將所述高折射率物質從在所述曝光步驟中曝光的所述芯部材料層的所述表面上除去;
顯影步驟,顯影所述芯部材料層以便形成具有傾斜端面的所述芯部,其中在所述高折射率物質除去步驟中已經從所述芯部材料層除去了所述高折射率物質;和
覆層形成步驟,以掩埋所述芯部的方式形成第二覆層。
8.一種光波導,其特征在于,所述光波導通過如權利要求7所述的光波導制造方法獲得。
9.一種光電復合配線板,其特征在于,所述光電復合配線板具有如權利要求8所述的光波導。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于松下電工株式會社,未經松下電工株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080014521.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





