[發(fā)明專利]用于將記錄材料定影在介質(zhì)上的方法和裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080007279.6
• 申請日: 2010-01-29
• 公開（公告）號: CN102317872A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P.J.霍蘭斯;F.P.H.特伊尼森
• 申請（專利權(quán)）人: 奧西－技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03G15/20
• 分類號: G03G15/20
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 原紹輝

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于將如墨粉或墨水之類的記錄材料定影在如紙等之類的記錄介質(zhì)上的方法和裝置。

背景技術(shù)

為了將記錄材料定影在介質(zhì)上，已知幾種方法。通常，用熱量來加熱記錄材料和介質(zhì)，使得記錄材料軟化，使記錄材料能變得附著于介質(zhì)。為提供熱量，通過合適的設(shè)備（例如燈）產(chǎn)生熱輻射是公知的。進(jìn)一步地，為了將燈產(chǎn)生的熱輻射同樣地提供到記錄材料和介質(zhì)，采用反射器組件是已知的。一個(gè)示例的反射器組件從法國專利FR1.492.748中已知。

在上述專利中公開的一個(gè)實(shí)施例中，反射器組件包括優(yōu)選是橢圓形的兩個(gè)曲線反射器區(qū)段。兩個(gè)橢圓形反射器區(qū)段具有兩個(gè)基本重合的焦點(diǎn)，輻射源放置于該焦點(diǎn)處。兩個(gè)反射器區(qū)段的第二焦點(diǎn)（FR1.492.748的圖7中的f2和f2'）位于一平面中，彼此空間隔開。輻射被朝第一橢圓形反射器區(qū)段的第二焦點(diǎn)（f2）和第二橢圓形反射器區(qū)段的第二焦點(diǎn)（f2'）聚焦，由此在下面的表面上提供包括兩個(gè)“熱點(diǎn)”的溫度升高的區(qū)域。

具體地，該現(xiàn)有技術(shù)的加熱表面的方法導(dǎo)致不僅加熱該表面，還加熱該表面下的材料，因?yàn)橛米銐虻臅r(shí)間來提供熱量以穿透該表面和下面的材料。因而，需要相對大量的熱以在該表面上獲得所需的升溫。進(jìn)一步地，用于加熱的現(xiàn)有技術(shù)組件需要加熱位置附近相對大的空間，例如，用于加熱被傳送通過該被加熱區(qū)域的圖像接收介質(zhì)，例如一張紙。因而，這種組件顯著限制了結(jié)合這種加熱組件的任何設(shè)備的設(shè)計(jì)選擇。

在其它已知方法中，采用熱量和壓力的組合進(jìn)行定影。在這種已知的定影方法中，由定影壓印區(qū)（nip）提供壓力，并用形成壓印區(qū)的任何元件提供熱量。這種定影組件在例如EP?1927901?A1中說明，其中，加熱器設(shè)置在定影輥內(nèi)部，其因此在內(nèi)表面上被提供熱量以加熱定影輥，使得外表面的溫度變得足夠高以定影記錄材料。

定影壓印區(qū)的至少一個(gè)元件的這種加熱要求相對大量的能量。由于溫度需要與例如正常室溫相比相對高，需要相當(dāng)長的時(shí)間以加熱這種元件，并且為了保持短的用戶等待時(shí)間，需要將被加熱的定影元件保持在所需的、升高的定影溫度。進(jìn)一步地，這種元件可具有相對大的質(zhì)量，需要相對大量的能量以將該元件的整個(gè)質(zhì)量加熱到定影溫度，或至少加熱到接近定影溫度的溫度。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的一個(gè)目標(biāo)是提供一種需要相對少量能量的定影方法，以及采用這種方法的裝置。

該目標(biāo)通過根據(jù)權(quán)利要求1的方法實(shí)現(xiàn)，其中，所述方法包括：產(chǎn)生熱輻射，并將該熱輻射提供在定影元件接近定影壓印區(qū)并在定影壓印區(qū)上游的表面上，以將所述表面加熱到定影溫度。注意熱量被提供在定影壓印區(qū)中與記錄介質(zhì)材料和介質(zhì)接觸的表面上，以將記錄材料定影到介質(zhì)上。從下文起，該表面可被稱作定影表面。通過將該介質(zhì)和該記錄材料傳輸通過所述定影壓印區(qū)而將該記錄材料定影在介質(zhì)上，在壓印區(qū)中定影表面提供所需熱量。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述方法包括將記錄材料（例如墨粉或墨水）轉(zhuǎn)印到定影元件的定影表面，同時(shí)定影元件的定影表面具有轉(zhuǎn)印溫度。?定影元件將記錄介質(zhì)傳輸?shù)蕉ㄓ皦河^(qū)。在定影壓印區(qū)中，記錄材料與介質(zhì)相遇并因?yàn)槎ㄓ氨砻嫔系臒崃考耙驗(yàn)閴毫?，記錄材料被定影到介質(zhì)上。

在另一個(gè)實(shí)施例中，記錄材料被轉(zhuǎn)印到介質(zhì)。然后，攜帶記錄材料的介質(zhì)被傳輸?shù)蕉ㄓ皦河^(qū)。剛好在定影壓印區(qū)上游，定影元件的定影表面被加熱，所提供的熱量被定影元件傳輸?shù)蕉ㄓ皦河^(qū)，在定影壓印區(qū)中，熱量和壓力使記錄材料定影在介質(zhì)上。

在根據(jù)本發(fā)明的方法中，在記錄材料和介質(zhì)到達(dá)定影壓印區(qū)之前不久將定影所需的熱量提供到定影元件。這樣，提供到定影元件的熱量只有短暫時(shí)間穿透定影元件，從而在到達(dá)定影壓印區(qū)之前只能穿透定影元件的薄的表面層。在定影壓印區(qū)中，由于熱量已提供在定影表面上，在該表面上已經(jīng)有可用的熱量以便定影記錄材料。因此，熱量不再進(jìn)一步傳輸?shù)蕉ㄓ霸?nèi)，并且只有定影所需的熱量需要被提供到定影元件。結(jié)果，只需要很少熱量，因?yàn)閷τ诩訜岫ㄓ霸馁|(zhì)量而言基本沒有熱量損失，并且基本上沒有熱量損失到周圍環(huán)境。

在該方法的一個(gè)實(shí)施例中，熱輻射被聚焦在定影元件的表面處。因此，所產(chǎn)生熱量的相對大的量可被提供到接近定影壓印區(qū)的定影元件，限制了熱損失。