[發(fā)明專利]用于將記錄材料定影在介質(zhì)上的方法和裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080007279.6
• 申請日: 2010-01-29
• 公開（公告）號: CN102317872A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: P.J.霍蘭斯;F.P.H.特伊尼森
• 申請（專利權(quán)）人: 奧西－技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03G15/20
• 分類號: G03G15/20
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 原紹輝

1.用于將記錄材料定影在介質(zhì)上的方法，所述方法包括以下步驟：

a)?產(chǎn)生熱輻射；

b)?將所述熱輻射提供在定影元件接近定影壓印區(qū)并在所述定影壓印區(qū)上游的表面上，以將所述表面加熱到定影溫度；以及

c)?通過將所述介質(zhì)和所述記錄材料傳輸通過所述定影壓印區(qū)，將所述記錄材料定影到所述介質(zhì)上。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，步驟b)包括聚焦所述熱輻射。

3.如前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中，所述方法在步驟a)之前還包括以下步驟：

d)?將所述記錄材料轉(zhuǎn)印到所述定影元件的所述表面，所述定影元件的所述表面具有轉(zhuǎn)印溫度；

e)?所述定影元件將所述記錄材料傳輸?shù)剿龆ㄓ皦河^(qū)。

4.用于將記錄材料定影在接收介質(zhì)上的裝置，所述裝置包括：

a)?可移動地布置的定影元件；

b)?壓輥，所述壓輥布置成與所述定影元件操作性耦接以形成定影壓印區(qū)；

c)?用于對所述定影元件提供熱輻射的加熱設(shè)備，所述加熱設(shè)備包括熱輻射產(chǎn)生元件，所述熱輻射產(chǎn)生元件布置成使得所述熱輻射被提供在所述定影元件接近所述定影壓印區(qū)并在所述定影壓印區(qū)上游的表面上。

5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述加熱設(shè)備還包括反射器組件，所述反射器組件的剖面包括：

-具有第一焦點和第二焦點的第一橢圓形反射器區(qū)段；

-具有第三焦點和第四焦點的第二橢圓形反射器區(qū)段；以及

-第三反射器區(qū)段，其布置為反射首先由所述第二反射器區(qū)段反射的輻射的一部分，

其中，所述第一、第二和第三反射器區(qū)段布置成使得所述第一焦點和所述第三焦點基本重合，并使得所述第三反射器區(qū)段將所述第四焦點大致朝所述第二焦點鏡像，并使得所述第二焦點和所述第四焦點的鏡像大致位于所述定影元件接近所述定影壓印區(qū)并在所述定影壓印區(qū)上游的所述表面上。

6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其中，所述第三反射器區(qū)段是平面形反射器區(qū)段。

7.如權(quán)利要求5或6所述的裝置，其中，所述反射器組件還包括第四圓形反射器區(qū)段，所述第四反射器區(qū)段安裝成使得其圓形的中心與所述第一焦點及與所述第三焦點基本重合。

8.如權(quán)利要求5-7中任意一項所述的裝置，其中，所述熱輻射產(chǎn)生元件大致位于所述第一焦點和所述第三焦點處。

9.如權(quán)利要求5-8中任意一項所述的裝置，其中，所述加熱設(shè)備在第一方向上從第一端部延伸到第二端部，并且其中，所述加熱設(shè)備還包括至少一個另外的輻射源，所述至少一個另外的輻射源布置在所述第一和第二端部之一處。

10.如權(quán)利要求4-9中任意一項所述的裝置，其中，所述定影元件是定影輥。

11.如權(quán)利要求4-9中任意一項所述的裝置，其中，所述定影元件是繞至少兩個輥伸展的定影帶。