[發(fā)明專利]觸摸屏及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080007008.0 | 申請日: | 2010-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN102308366A | 公開(公告)日: | 2012-01-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃智泳;黃仁皙;全相起;李東郁;孫鏞久;樸珉春;李承憲;具范謨;洪瑛晙;金起煥;金秀珍;崔賢 | 申請(專利權(quán))人: | LG化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號: | H01L21/027 | 分類號: | H01L21/027;G06F3/041;G02B5/28 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;師楊 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 觸摸屏 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種觸摸屏及其制備方法。本申請要求于2009年2月6日和2009年12月21日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請第10-2009-0009750和10-2009-0127756號的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益,它們的全部內(nèi)容通過引用并入本文。此外,本申請要求于2009年7月16日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請第10-2009-0065103和10-2009-0065106號的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益,它們的全部內(nèi)容通過引用并入本文。
背景技術(shù)
一般而言,通過圖案化基于ITO的導(dǎo)電層來使用觸摸屏,但是,當(dāng)將ITO應(yīng)用到大面積觸摸屏上時(shí),由于自身RC中繼(self-RC?relay)導(dǎo)致識別速度降低。為了解決該問題,許多公司已經(jīng)開發(fā)了通過使用印刷法來取代ITO的技術(shù),但是該技術(shù)難以形成具有高精度的精細(xì)圖案,該圖案在可見度方面是裸眼看不見的。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
為了解決相關(guān)領(lǐng)域中的問題,本發(fā)明提供了一種能夠經(jīng)濟(jì)并有效地制備包含具有高精度和超細(xì)線寬的導(dǎo)電圖案的觸摸屏的制備方法,以及用該方法制備的觸摸屏。
技術(shù)方案
本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施方式提供了一種制備觸摸屏的方法,包含如下步驟:a)在基板上形成導(dǎo)電層;b)在所述導(dǎo)電層上形成防蝕圖案;和c)通過使用所述防蝕圖案經(jīng)過度蝕刻所述導(dǎo)電層形成線寬小于所述防蝕圖案的線寬的第一導(dǎo)電圖案。
根據(jù)本發(fā)明的制備觸摸屏的方法可以進(jìn)一步包括:d1)除了將導(dǎo)電層形成在第一導(dǎo)電圖案上而不是在基板上以外,以與步驟a)至c)相同的方式形成第二導(dǎo)電圖案;d2)在所述基板形成有第一導(dǎo)電圖案的表面的相反面以與步驟a)至c)相同的方式在基板上形成第二導(dǎo)電圖案;或d3)在以與步驟a)至c)相同的方式將第二導(dǎo)電圖案形成在另外的基板上后,將帶有第二導(dǎo)電圖案的基板的表面層壓到帶有第一導(dǎo)電圖案的基板的表面上或帶有第一導(dǎo)電圖案的表面上。
所述方法可以進(jìn)一步包括:e)去除所述防蝕圖案;或f)在步驟c)后重新形成所述防蝕圖案以覆蓋所述導(dǎo)電圖案。所述方案可以進(jìn)一步包括:當(dāng)進(jìn)行步驟e)時(shí),在所述第一導(dǎo)電圖案上形成絕緣層。
在步驟d1)至d3)中,在以與步驟a)至c)相同的方式形成所述第二導(dǎo)電圖案后,可以在所述第二導(dǎo)電圖案上形成額外的絕緣層。
本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施方式提供了一種使用所述制備觸摸屏的方法制備的觸摸屏,所述觸摸屏包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案。
本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施方式提供了一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中所述導(dǎo)電圖案的錐角小。所述導(dǎo)電圖案的錐角可以為大于0至小于90度,優(yōu)選為大于0至45度以下,并且更優(yōu)選為大于0至30度以下。
本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施方式提供了一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中所述絕緣層圖案的錐角小。所述絕緣層圖案的錐角可以為大于0至小于90度,優(yōu)選為大于0至70度以下,并且更優(yōu)選為大于0至30度以下。
本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施方式提供了一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中所述絕緣層圖案的錐角大于所述導(dǎo)電圖案的錐角。只要大于所述導(dǎo)電圖案的錐角,就對絕緣層圖案的錐角沒有特別限制,但是更優(yōu)選比所述導(dǎo)電圖案的錐角大0度至4度以下。
本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施方式提供了一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中在所述導(dǎo)電圖案和所述絕緣層圖案之間包含空隙。
本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施方式提供了一種觸摸屏,其包括:基板;和形成在所述基板的至少一個(gè)表面上的導(dǎo)電圖案,所述導(dǎo)電圖案的線寬為100微米以下,優(yōu)選為0.1至30微米,更優(yōu)選為0.5至10微米,且更優(yōu)選為1至5微米。根據(jù)所述示例性實(shí)施方式的觸摸屏還可以包括在所述導(dǎo)電圖案上覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案。所述觸摸屏還可以包括絕緣層圖案,該絕緣層圖案具有與所述導(dǎo)電圖案相應(yīng)的圖案并且具有比所述導(dǎo)電圖案的線寬更寬的線寬。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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