[發(fā)明專利]觸摸屏及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080007008.0 | 申請(qǐng)日: | 2010-02-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102308366A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-01-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃智泳;黃仁皙;全相起;李東郁;孫鏞久;樸珉春;李承憲;具范謨;洪瑛晙;金起煥;金秀珍;崔賢 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | LG化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/027 | 分類號(hào): | H01L21/027;G06F3/041;G02B5/28 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;師楊 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 觸摸屏 及其 制備 方法 | ||
1.一種制備觸摸屏的方法,該方法包括如下步驟:
a)在基板上形成導(dǎo)電層;
b)在所述導(dǎo)電層上形成防蝕圖案;以及
c)通過(guò)使用所述防蝕圖案經(jīng)過(guò)度蝕刻所述導(dǎo)電層形成具有比防蝕圖案的線寬小的線寬的第一導(dǎo)電圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備觸摸屏的方法,該方法進(jìn)一步包括:d)在步驟c)后形成第二導(dǎo)電圖案,并且所述步驟d)包括:d1)除了將導(dǎo)電層形成在第一導(dǎo)電圖案上而不是在基板上以外,以與步驟a)至c)相同的方式形成第二導(dǎo)電圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備觸摸屏的方法,該方法進(jìn)一步包括:d)在步驟c)后形成第二導(dǎo)電圖案,并且所述步驟d)包括:d2)在所述基板的形成有所述第一導(dǎo)電圖案的表面的相反面上以與步驟a)至c)相同的方式形成第二導(dǎo)電圖案;
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備觸摸屏的方法,該方法進(jìn)一步包括:d)在步驟c)后形成第二導(dǎo)電圖案,并且所述步驟d)包括:d3)在以與步驟a)至c)相同的方式將所述第二導(dǎo)電圖案形成在另外的基板上后,將所述帶有第二導(dǎo)電圖案的基板的表面層壓到帶有第一導(dǎo)電圖案的基板的表面上或帶有第一導(dǎo)電圖案的表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的制備觸摸屏的方法,其中,在步驟c)中,所述導(dǎo)電層的蝕刻時(shí)間為剛好蝕刻時(shí)間至比所述剛好蝕刻時(shí)間長(zhǎng)2000%的時(shí)間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的制備觸摸屏的方法,該方法進(jìn)一步包括:e)去除所述防蝕圖案;或f)在步驟c)后重新形成所述防蝕圖案以覆蓋所述第一導(dǎo)電圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備觸摸屏的方法,其中,在步驟f)中,所述重新形成所述防蝕圖案的方法包括加熱處理、與溶劑接觸或溶劑熏蒸、等離子體處理、或加壓。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備觸摸屏的方法,該方法進(jìn)一步包括:在步驟b)過(guò)程中或之后烘焙。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備觸摸屏的方法,該方法進(jìn)一步包括:在進(jìn)行步驟e)后,在所述第一導(dǎo)電圖案上形成絕緣層。
10.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的制備觸摸屏的方法,該方法進(jìn)一步包括:在步驟d)后,在所述第二導(dǎo)電圖案上形成絕緣層。
11.一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中所述觸摸屏用根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的制備觸摸屏的方法制備。
12.一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中所述導(dǎo)電圖案具有大于0度至小于90度的錐角。
13.一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中所述絕緣層圖案具有大于0度至小于90度的錐角。
14.一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中所述絕緣層圖案的錐角大于所述導(dǎo)電圖案的錐角。
15.一種觸摸屏,其包括:基板;在所述基板的至少一個(gè)表面上形成的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案,其中在所述導(dǎo)電圖案和所述絕緣層圖案之間包含空隙。
16.一種觸摸屏,其包括:基板;形成在所述基板的至少一個(gè)表面上的導(dǎo)電圖案;和覆蓋所述導(dǎo)電圖案的絕緣層圖案或具有與所述導(dǎo)電圖案相應(yīng)的圖案和比所述導(dǎo)電圖案的線寬更寬的線寬的絕緣層圖案,其中在所述導(dǎo)電圖案線寬方向的橫截面中,從所述導(dǎo)電圖案的一端至所述絕緣層圖案的距離a和從所述導(dǎo)電圖案的另一端至所述絕緣層圖案的距離b之間的百分比a/b*100在90至110的范圍內(nèi)。
17.一種觸摸屏,其包括:基板;和在所述基板的至少一個(gè)表面上形成并具有100微米以下的線寬的導(dǎo)電圖案。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的觸摸屏,其進(jìn)一步包括:形成在所述導(dǎo)電圖案上的絕緣層圖案,其中所述絕緣層圖案覆蓋所述導(dǎo)電圖案或具有比所述導(dǎo)電圖案的線寬更大的線寬。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的觸摸屏,其中,所述導(dǎo)電圖案具有大于0度至小于90度的錐角。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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