[發明專利]反應室無效
| 申請號: | 201080006806.1 | 申請日: | 2010-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN102308022A | 公開(公告)日: | 2012-01-04 |
| 發明(設計)人: | J·佩爾托涅米;P·索伊尼寧 | 申請(專利權)人: | BENEQ有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 林振波 |
| 地址: | 芬蘭*** | 國省代碼: | 芬蘭;FI |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應 | ||
1.一種用于原子層沉積反應器的反應室,該反應室包括用于在反應室內部提供反應空間的外壁(2、4;40、42、44、46),其特征在于,反應室的至少一個外壁(2、4;40、42、44、46)由柔性薄板構成。
2.根據權利要求1所述的反應室,其特征在于,反應室的外壁由柔性薄板制成的第一板(2)和第二板(4)構成,在第一板和第二板之間提供了反應空間,以便接收并用ALD工藝處理基體(8)。
3.根據權利要求2所述的反應室,其特征在于,反應室還包括放置在第一和第二板(2、4)之間的中間板(6),該中間板與第一板(2)一起形成反應空間。
4.根據權利要求3所述的反應室,其特征在于,中間板(6)由薄板構成。
5.根據權利要求2至6中任何一項所述的反應室,其特征在于,用布置在第一板(2)或第二板(4)或這二者上的邊緣凸緣來加強反應室的結構。
6.根據權利要求2至5中任何一項所述的反應室,其特征在于,第一板(2)是反應室的后板,而第二板(4)是反應室的前板,通過該前板將供氣裝置和排氣裝置引入反應室。
7.根據權利要求1所述的反應室,其特征在于,反應室的外壁由第一板(42)、第二板(40)和在第一和第二板(42、40)之間延伸的一個或多個側板(44、46)構成,第一板(42)、第二板(40)和側板(44、46)中的至少一個由柔性薄板構成。
8.根據權利要求2所述的反應室,其特征在于,側壁(44、46)中的至少一個由柔性薄板構成。
9.根據權利要求1至8中任何一項所述的反應室,其特征在于,用薄板形成流動通道(15、14、24)和/或反應室的反應空間。
10.根據權利要求1至9中任何一項所述的反應室,其特征在于,反應室的反應空間的側壁(44、46)所形成的周邊在整個長度上是起作用的,從而周邊的整個長度都被用于反應空間氣體交換,以便供給和排出氣體。
11.根據權利要求10所述的反應室,其特征在于,反應室的供氣裝置布置成使得能在由側壁(44、46)形成的周邊上在一個或多個側壁(44、46)的長度上將氣體供給到反應空間內,以及反應室的排氣裝置布置成使得能在由側壁(44、46)形成的周邊上在一個或多個側壁(44、46)的長度上將氣體從反應空間排出。
12.根據權利要求1至11中任何一項所述的反應室,其特征在于,在包括矩形反應空間的反應室中,供氣裝置布置成使得能在由側壁(44、46)形成的周邊上在一個側壁的長度上將氣體供給到反應空間內,以及排氣裝置布置成使得能在由側壁(44、46)形成的周邊上在三個側壁的長度上將氣體從反應空間排出。
13.根據權利要求1至12中任何一項所述的反應室,其特征在于,反應室的供氣裝置包括沿氣流方向連續布置的一個或多個氣體分配部件(10、12),用于在由側壁(44、46)形成的周邊上在側壁的整個長度上均勻地分配氣流,從而在由側壁形成的周邊上在側壁的整個長度上將氣體供給到反應空間。
14.根據權利要求10所述的反應室,其特征在于,供氣裝置布置成使得能沿兩個或更多個方向朝反應室的側壁供給氣體,以便在由側壁(44、46)形成的周邊上在側壁的長度上排出氣體。
15.根據權利要求3至14中任何一項所述的反應室,其特征在于,中間板(6)布置在第一和第二板(2、4;42、40)之間,使得在中間板(6)和第二板(4;40)之間形成間隙(14),氣體通過該間隙從反應空間排出。
16.根據權利要求15所述的反應室,其特征在于,第二板(4)做成槽狀,使得第二板與中間板(6)一起形成抽吸室(16),要從反應空間排出的氣體通過間隙(14)引導到該抽吸室。
17.根據權利要求16所述的反應室,其特征在于,抽吸室(16)設有布置在第二板(4)中的抽吸通道(20),以便從抽吸室(16)排出氣體。
18.根據權利要求16或17所述的反應室,其特征在于,間隙(14)設置有一個或多個氣體引導部件(18),用于引導氣流從反應空間排出。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





