[實用新型]化合物半導體加熱裝置

無效

• 申請號: 201020695061.1
• 申請日: 2010-12-31
• 公開（公告）號: CN201933198U
• 公開（公告）日: 2011-08-17
• 發明（設計）人: 周雅清
• 申請（專利權）人: 樂山凱亞達光電科技有限公司
• 主分類號: C30B15/14
• 分類號: C30B15/14
• 代理公司: 成都中亞專利代理有限公司 51126
• 代理人: 陳亞石

技術領域

本實用新型涉及一種化合物半導體加熱裝置。

背景技術

隨著工業經濟的飛速發展，化合物半導體逐漸被更為廣泛的應用，化合物半導體的制備工藝以及純度的要求也越來越高，而制備高純度化合物半導體的現有設備結構較為復雜，加熱裝置橫向、縱向溫度梯度變化巨大，加熱器內熱對流劇烈，爐溫溫場不穩定，使得在拉晶過程中，容易出現單晶變為多晶的情況。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，在此提供一種結構簡單、熱場均勻以及溫度穩定的化合物半導體加熱裝置。

本實用新型是這樣實現的，構造一種化合物半導體加熱裝置，包括有保溫壁，保溫壁上設置有保溫蓋，其特征在于：保溫壁內設置有石墨加熱器，在石墨加熱器內通過托碗設置有石英坩堝，托碗通過坩堝托桿支撐，保溫壁下設置有絕緣墊片，石墨加熱器的引腳與電極連接。

上述石墨加熱器為U型石墨加熱器。

本實用新型的優點在于：本發明采用石墨為加熱器，因為石墨具的電阻率較高，對電流的阻礙作用也較大，當給石墨通電時，會放出大量熱，它還具有高熔點3500℃、高沸點4827℃的特性，在惰性氣體保護下不會熔化、蒸發、反應。本發明的U型石墨加熱器的底部收窄、貼近坩堝托桿，下部通電發熱，具有更加均勻的熱場，使加熱裝置內溫場更穩定，原料受熱均勻。具有很強的推廣價值和應用價值。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖

圖中：1、保溫蓋，2、保溫壁，3、絕緣墊片，?4、電極，5、石墨加熱器，6、托碗，7、石英坩堝，8、坩堝托桿。

具體實施方式

為了克服現有技術的不足，本實用新型在此提供一種化合物半導體加熱裝置，如圖1所示：包括有起保溫作用的保溫壁2，保溫壁2上部設置有保溫蓋1。其中在保溫壁2內設置有石墨加熱器5，在石墨加熱器5內通過托碗6設置有石英坩堝7，托碗6通過坩堝托桿8支撐，在保溫壁2下還設置有絕緣墊片3，所述的石墨加熱器5下的引腳與電極4連接。