[實用新型]研磨墊調節器的處理面結構有效
| 申請號： | 201020643430.2 | 申請日： | 2010-12-01 |
| 公開（公告）號： | CN201979394U | 公開（公告）日： | 2011-09-21 |
| 發明（設計）人： | 黃煌南;李政芳 | 申請（專利權）人： | 黃煌南;李政芳 |
| 主分類號： | B24B37/00 | 分類號： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人： | 孫皓晨 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨 調節器 處理 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種研磨墊調節器的處理面結構，其特征在于，包括：
一外框，其內部具有一容置空間；
一底材，設于該外框內；
一固著層，設于該外框內而包覆該底材；
一第一研磨區，由復數個第一磨粒均勻分布形成于該固著層表面；及
復數個第二研磨區，由復數個第二磨粒均勻分布形成于該固著層表面，所述的這些第二研磨區等分分布于該固著層表面，所述的這些第二研磨區內的所述的這些第二磨粒的尖端高度高于該第一研磨區的所述的這些第一磨粒的尖端高度。
2.根據權利要求1所述的研磨墊調節器的處理面結構，其特征在于：該第一研磨區的所述的這些第一磨粒及該第二研磨區的所述的這些第二磨粒以壓著方式設置該固著層表面，且呈現具有規則性的凸面狀態。
3.根據權利要求1所述的研磨墊調節器的處理面結構，其特征在于：該第一研磨區的所述的這些第一磨粒及該第二研磨區的所述的這些第二磨粒以壓著方式設置該固著層表面，且呈現不具規則性的凸面狀態。
4.根據權利要求1所述的研磨墊調節器的處理面結構，其特征在于：所述的這些第一研磨區的所述的這些第一磨粒及該第二研磨區所使用的所述的這些第二磨粒的材質選自天然鉆石、人工鉆石、氮化硼、碳化硅或陶瓷。
5.根據權利要求1所述的研磨墊調節器的處理面結構，其特征在于：該固著層與所述的這些第一磨粒及所述的這些第二磨粒間的粘結方式，選自粘著、硬焊、燒結或電鍍。
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