[實用新型]一種制膜裝置

無效

• 申請號: 201020628693.6
• 申請日: 2010-11-26
• 公開（公告）號: CN201890923U
• 公開（公告）日: 2011-07-06
• 發明（設計）人: 黃瑞安
• 申請（專利權）人: 黃瑞安
• 主分類號: C23C14/38
• 分類號: C23C14/38
• 代理公司: 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288
• 代理人: 廖平

技術領域

本實用新型涉及一種真空制膜裝置。

背景技術

目前常用的制膜設備中利用到了脈沖激光淀積技術、濺射技術、電子束共蒸積和熱共蒸積等技術。脈沖激光淀積法能生長出性能優良的薄膜，但生長速度慢。采用濺射方法制備薄膜，容易出現反濺射，膜的質量下降。電子束共蒸積制膜熱源需要超高真空，而有些薄膜又需要氧氣。因此，有必要對現有制膜裝置進行改進。

實用新型內容

本實用新型針對上述技術存在的缺陷，提供一種膜的生成速度快、質量好的真空制膜裝置。

為實現上述目的，本實用新型采用如下技術方案：

一種制膜裝置，包括真空室、與真空室底部相連的抽氣組件、安裝在真空室內的加熱器，所述加熱器連接一置于真空室外的控制電源，其特征在于：還包括一對陽極電弧和陰極電弧，連接陽極電弧和陰極電弧的控制電源，以及電弧觸發電極和控制電弧觸發電極的控制電源，所述陰極電弧置于一水冷底座上。

所述加熱器下端設有一對掛鉤。

所述真空室內還設有一測溫儀，所述測溫儀一端與陰極電弧連接，一端與置于真空室外的溫度顯示屏連接。

所述陰極電弧是用銅制成的空心圓柱形，用于加熱的靶材可以放在里面。

同樣，所述陽極也是用銅制成的。

本實用新型通過陽極和陰極之間產生的弧光放電能將置于陰極內的蒸積材料迅速熔融，激發的等離子體向空間發射。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

如圖1所示，本實用新型包括真空室1，在真空室底部右邊開有一小孔，抽氣機2通過該小孔與真空室1連接。真空室的上部固定連接一加熱器10，加熱器的控制電源5裝在真空室外部。在加熱器的下端設有一對掛鉤，可以掛需要鍍膜的器件。加熱器的正下方設有一銅制的空心圓柱作為電弧陰極3，該電弧陰置于冷卻底座12上，制膜時蒸積靶材置于電弧陰極3中，冷卻底座降底電弧陰極的溫度，防止高溫。同樣利用銅制成電弧陽極4，該電弧陽極通過控制電源5與電弧陰極3連接。在電弧陽極4的對面設一電弧觸發電極8，控制該電弧觸發電極的控制電源5置于真空室外面。為了更有效地了解控制制膜時的溫度，還在真空室中設一測溫儀6，測溫儀在真空室內與電弧陰極3連接，同時還連接一在真空室外的溫度顯示屏。