[實用新型]半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201020618069.8 | 申請日: | 2010-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN201868391U | 公開(公告)日: | 2011-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王超;李志衛(wèi);陳武偉 | 申請(專利權(quán))人: | 嘉盛半導(dǎo)體(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/00 | 分類號: | H01L21/00;B08B3/12 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 湯在彥 |
| 地址: | 215021 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 產(chǎn)品 清洗 機(jī)臺 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種半導(dǎo)體封裝技術(shù),尤其是指一種半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺。
背景技術(shù)
眾所周知,半導(dǎo)體封裝的目的是完成裸芯片內(nèi)部電路的引腳與外部基體信號引出端的電氣互連,同時保護(hù)好裸芯片,避免外物損傷,使其可承載一定的外力,實現(xiàn)良好的散熱性。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的日益發(fā)展及市場對小型化的需求,產(chǎn)品的輕薄短小化成為技術(shù)發(fā)展的趨勢及行業(yè)竟?fàn)幍慕裹c。QFN(Quad?FlatNon-leaded?Package,QFN)方形扁平無引腳封裝,是近年來半導(dǎo)體封裝中較先進(jìn)的封裝工藝,其封裝的產(chǎn)品呈方形,引腳亦呈方形分列排布于基體底部四周,封裝后的產(chǎn)品尺寸小、電路徑短、電性能佳、可靠性高,其主要工藝有:晶圓背部研磨→晶圓切割成單顆芯片→芯片與引線框架粘合→引線鍵合→塑封→-印字→切割(芯片與芯片彼此分離)→抓取(芯片從引線框架上分離)→測試→包裝出貨。目前QFN封裝可實現(xiàn)的最小封裝尺寸可達(dá)到0.6mm*0.3mm*0.3mm,相當(dāng)于一個大米粒的百分之一大小,是目前國內(nèi)外在該領(lǐng)域內(nèi)達(dá)到的最小尺寸。
如此小的封裝體積,對于QFN現(xiàn)有工藝來說是個巨大的挑戰(zhàn)。切割工藝中,先將附有膠層的薄膜貼到圓鐵環(huán)上,薄膜由膠層和塑料組成,膠層的一面貼上并列的引線框架條,利用切割機(jī)對貼有引線框架條的一面進(jìn)行切割,切割時為避免切好的芯片從薄膜上脫離,并不將薄膜切透,而是剩余一部分,由于刀片很大程度上只是在切薄膜上的膠層,對于0.6mm*0.3mm*0.3mm級封裝尺寸而言,由于產(chǎn)品極其微小,切割中產(chǎn)生的殘膠經(jīng)常會粘到產(chǎn)品上,甚至?xí)a(chǎn)品整個粘住,這會極大影響產(chǎn)品的性能及后續(xù)進(jìn)行的功能測試,必須將膠去除干凈。
由于目前封裝的產(chǎn)品較大,殘膠通常對其性能及功能測試不產(chǎn)生較大影響,因此還未有可以完全去除殘膠的設(shè)備或工藝。
實用新型內(nèi)容
本實用新型要解決的技術(shù)問題是:針對封裝超小型產(chǎn)品(如0.6mm*0.3mm*0.3mm),提出一種可以將殘膠完全去除的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺。
本實用新型的技術(shù)解決方案是:一種半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,所述清洗機(jī)臺包括:
控制面板,位于機(jī)臺正面的上部,用于實現(xiàn)清洗過程的控制;
清洗作業(yè)區(qū),位于機(jī)臺正面的中部,呈中空槽狀,所述作業(yè)區(qū)包括一個以上的清洗槽,且所述清洗機(jī)臺對應(yīng)各清洗槽設(shè)有超聲波發(fā)生裝置,以利用超聲波對所述清洗槽內(nèi)的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品進(jìn)行清洗;以及
干燥區(qū),用于對清洗后的產(chǎn)品進(jìn)行干燥。
如上所述的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,其中,所述清洗作業(yè)區(qū)作業(yè)區(qū)具有臺面板,所述清洗槽包括一個以上的化學(xué)槽以及一個以上的水槽,所述化學(xué)槽及水槽是由該臺面板相對凹入而形成,所述化學(xué)槽中盛裝有表面活性劑溶液,所述水槽中盛裝有去離子水。
如上所述的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,其中,所述清洗槽的槽體外周側(cè)壁上安裝有加熱片,其內(nèi)側(cè)壁上安裝有溫度傳感器感應(yīng)探頭,所述超聲波發(fā)生裝置的超聲波振子設(shè)于各清洗槽的槽體底部。
如上所述的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,其中,所述干燥區(qū)包括設(shè)于清洗作業(yè)區(qū)下游的加熱旋干槽,且所述加熱旋干槽具有由該臺面板平面凸起而形成的槽體,槽體上方設(shè)有蓋體,槽體側(cè)壁設(shè)有輸入工作氣體的開孔,且蓋體上具有通氣孔。
如上所述的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,其中,所述開孔與工作氣體管路相通,所述工作氣體管路與供氣系統(tǒng)相連,且所述工作氣體管路上設(shè)有加熱結(jié)構(gòu),所述加熱旋干槽的內(nèi)側(cè)壁上安裝有溫度傳感器感應(yīng)探頭。
如上所述的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,其中,所述清洗作業(yè)區(qū)設(shè)有背板,所述背板上設(shè)有頂部通風(fēng)區(qū)、底部通風(fēng)區(qū)、清洗切換槽及置物架,所述清洗切換槽位于頂部通風(fēng)區(qū)和底部通風(fēng)區(qū)之間。
如上所述的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,其中,所述清洗切換槽上方具有至少一個水龍頭,所述水龍頭中有去離子水。
如上所述的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,其中,所述頂部通風(fēng)區(qū)和底部通風(fēng)區(qū)具有柵格狀間隙。
如上所述的半導(dǎo)體封裝產(chǎn)品的清洗機(jī)臺,其中,所述清洗作業(yè)區(qū)還設(shè)有氮?dú)鈽尯图兯畼專挥谠撉逑醋鳂I(yè)區(qū)前端兩側(cè)。
所述控制面板包括總控制器、對應(yīng)各清洗槽及/或加熱旋干槽設(shè)置的多個分控制器;所述總控制器設(shè)置有急停按鈕;所述分控制器設(shè)置有控制清洗槽及/或加熱旋干槽的工作溫度的溫度控制器及控制清洗槽及/或加熱旋干槽的工作時間的時間控制器;所述機(jī)臺的側(cè)部設(shè)有配電區(qū),所述控制面板通過導(dǎo)電線路連接到側(cè)部的配電箱中。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





