[實用新型]硅片移動托架的升降機構

無效

• 申請號: 201020581489.3
• 申請日: 2010-10-29
• 公開（公告）號: CN201858874U
• 公開（公告）日: 2011-06-08
• 發明（設計）人: 孫鐵囤;荀建華;劉志剛;高玉山;潘盛;姚偉忠;陳瓊
• 申請（專利權）人: 常州億晶光電科技有限公司
• 主分類號: F27B9/30
• 分類號: F27B9/30;F27D3/12
• 代理公司: 常州市維益專利事務所 32211
• 代理人: 周祥生

技術領域：

本實用新型涉及一種硅電池片燒結爐，尤其涉及硅電池片燒結爐中硅片輸送裝置。

背景技術：

在太陽電池片生產工藝中，燒結是使晶體硅基片真正具有光電轉換功能的至關重要的一步。因此，燒結設備的性能好壞直接影響著電池片的質量。

目前，國內外的太陽能電池生產制造廠家主要使用歐美企業所生產的燒結爐，這類燒結爐結構都是網帶式隧道燒結爐，在燒結爐的縱向上依次設有預熱排膠區、升溫區、燒結區和降溫區，在不同區域布置不同密度的加熱燈管，以此來控制各區域的溫度，印刷電極的硅片通過網帶傳輸，依次經過燒結爐的不同爐溫區，完成預熱排膠、升溫、燒結和降溫的電極燒結過程，雖然這種網帶式隧道燒結技術比較成熟，但整個燒結爐的縱向占地面積大，需要設計很長的爐體才能保證硅片在隧道傳輸過程中的預熱排膠、升溫、燒結、降溫過程，由于高溫燒結區的工藝溫度需要在850-950℃之間，因此需要設計2-3米的隧道長度才能達到如此高的溫度，這使得網帶式燒結爐的體積龐大。若縮小則無法滿足燒結工藝要求。另外，耐高溫網帶在運轉的過程中，需要繞爐體內外循環運轉，網帶部分伴隨硅片接受升溫和降溫的過程，因此，在運轉過程中，網帶會從爐內攜帶出大量的熱量，而這部分熱量將全部作為損耗，不僅造成了大量能量的浪費，而且也升高了工作環境溫度，為此，申請人研制了一種無網帶高效燒結爐，它能很好地克服現有技術的不足，設備占地面積小，熱效率高，耗電量少，節能效果顯著。

所述無網帶高效燒結爐，包括進料臺1、隧道式燒結箱2、出料臺3、硅片輸送裝置4和爐體架5，如圖1所示，沿隧道式燒結箱2的縱向依次設有預熱排膠區21、升溫區22、燒結區23和降溫區24四個區域，在預熱排膠區21、升溫區22、燒結區23和降溫區24之間均設有隔熱板25和氣流隔斷門8，在預熱排膠區21、升溫區22和燒結區23內設有加熱燈管26，如圖2所示；硅片輸送裝置4設置在進料臺1和出料臺3之間，它包括固定托架41和移動托架42，固定托架41的兩端分別固定在進料臺1和出料臺3中的固定架12和32上，移動托架42的兩端分別固定在進料臺1和出料臺3中的滑動板17、37上，固定托架41位于兩相鄰移動托架42之間；進料臺1和出料臺3的結構相同，都包括固定底板11、31，固定架12、32，導向桿13、33，導向套14、34，活動板15、35，滑軌16、36和滑動板17、37，活動板15、35與固定底板11、31之間通過導向桿13、33與導向套14、34的套裝配合結構相連接，滑軌16、36固定在活動板15、35上，滑動板17、37套裝在滑軌16、36上，在固定底板11、31和活動板15、35之間設有往復升降機構，固定底板11、31安裝在爐體架5上，在固定底板11、31與滑動板17、37之間設有往復平移機構7，如圖3、圖4、圖5所示，往復升降機構帶動活動板15、35相對于固定底板11、31周期性地完成上升和下降動作，往復平移機構7帶動滑動板17、37相對于活動板15、35周期性地完成前移和后移動作，如圖3所示。由此可知，往復升降機構和往復平移機構7是無網帶高效燒結爐中的核心驅動機構。

實用新型內容：

本實用新型的目的是為無網帶高效燒結爐提供一種硅片移動托架的升降機構。

本實用新型所采用的技術方案是：

所述硅片移動托架的升降機構，包括水平推桿、擺桿、轉軸、軸承座、偏心輪、滾輪、耳座、活動板和固定底板，轉軸通過軸承座安裝在固定底板上，偏心輪固定安裝在轉軸上，擺桿的上端固定安裝在轉軸上，轉軸可轉動地安裝在固定底板上，擺桿的下端與水平推桿鉸接，滾輪通過耳座固定在活動板的下端面上，滾輪與偏心輪相接觸。

由于滾輪通過耳座固定在活動板上，轉軸通過軸承座安裝在固定底板上，偏心輪固定安裝在轉軸上，擺桿的上端固定安裝在轉軸上，轉軸可轉動地安裝在固定底板上，擺桿的下端與水平推桿鉸接，偏心輪與滾輪相接觸，當水平推桿左右平移時，擺桿帶動轉軸在一定夾角范圍內正反轉動，由于偏心輪固定安裝在轉軸上，偏心輪也隨之轉動，從而帶動活動板下降或上升，滿足移動托架相對于固定托架的升降動作要求；它與平移機構協同作用，使移動托架不斷將放置在固定托架上的硅片逐步向前搬運。

附圖說明：

圖1為無網帶燒結爐的整體結構示意圖；

圖2為圖1中隧道式燒結箱的結構示意圖；

圖3為硅片輸送裝置的結構示意圖；

圖4、圖5為硅片輸送裝置中固定托架和移動托架的分布示意圖；

圖5為圖4中C-C剖視圖；