[實用新型]濺鍍設備的移動式磁控裝置

無效

• 申請號: 201020579640.X
• 申請日: 2010-10-28
• 公開（公告）號: CN201817544U
• 公開（公告）日: 2011-05-04
• 發明（設計）人: 黃泳釗;鄭博仁
• 申請（專利權）人: 北儒精密股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京泰吉知識產權代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍

1.一種濺鍍設備的移動式磁控裝置，包含：一個基板，以及一個安裝在該基板上的磁控單元，該磁控單元包括兩個彼此間隔的第一磁件、一個位于所述第一磁件之間且極性相同的第二磁件，以及至少一個介于第二磁件與第一磁件之間且極性相反的第三磁件；其特征在于：該磁控單元還包括數個連接在第一磁件及第二磁件之間的弧連磁件，上述第三磁件和相鄰的第一磁件之間的寬度小于上述第三磁件和第二磁件之間的寬度。

2.根據權利要求1所述的濺鍍設備的移動式磁控裝置，其特征在于：該磁控單元的第三磁件的數量是兩個，分別位于該第二磁件的相反側。

3.根據權利要求1或2所述的濺鍍設備的移動式磁控裝置，其特征在于：所述弧連磁件都具有一個與第一磁件垂直連接的平連段，以及一個連接在該平連段及第二磁件之間的弧連段。

4.根據權利要求3所述的濺鍍設備的移動式磁控裝置，其特征在于：該基板包括兩個彼此平行且分別靠近其中一個第一磁件的長邊，且所述第一磁件、第二磁件及第三磁件間隔設置，并且和所述長邊平行。

5.根據權利要求4所述的濺鍍設備的移動式磁控裝置，其特征在于：該基板還包括兩個垂直連接在所述長邊之間的短邊，而所述弧連磁件左右對稱地靠近其中一個短邊。