[實用新型]一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020567155.0
• 申請日: 2010-10-19
• 公開（公告）號: CN201834972U
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳超;李建光;何世武;李明軍;崔磊;王大定
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市潔馳科技有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46;C23F1/34
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務(wù)所 44237
• 代理人: 張全文

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)。

背景技術(shù)

全球PCB產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值占電子元件產(chǎn)業(yè)總產(chǎn)值的四分之一以上，是各個電子元件細分產(chǎn)業(yè)中比重最大的產(chǎn)業(yè)，產(chǎn)業(yè)規(guī)模達400億美元。同時，由于其在電子基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)中的獨特地位，已經(jīng)成為當代電子元件業(yè)中最活躍的產(chǎn)業(yè)。

蝕刻作為PCB制程中的重要工藝，酸性蝕刻液因為具有側(cè)蝕小、速率易于控制和易再生等特點，被廣泛應(yīng)用。在蝕刻過程中，Cu²⁺與Cu作用生成Cu⁺，隨著蝕刻反應(yīng)的進行，Cu⁺數(shù)量越來越多，Cu²⁺減少，蝕刻液蝕刻能力很快下降，為保持穩(wěn)定蝕刻能力，需加入氧化劑使Cu⁺盡快轉(zhuǎn)化為Cu²⁺。

目前，酸性蝕刻液一般為添加H₂O₂或NaClO₃藥劑進行再生，但相對成本較高，且不符合清潔生產(chǎn)要求。

實用新型內(nèi)容

有鑒于此，本實用新型提供一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)，解決現(xiàn)有技術(shù)酸性蝕刻液再生需要額外添加氧化劑的技術(shù)問題。

本實用新型是這樣實現(xiàn)的，

一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統(tǒng)，該再生系統(tǒng)包括蝕刻缸、蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽、離子膜電解槽、再生蝕刻液槽，該離子膜電解槽通過離子交換膜分為陽極室和陰極室，該蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽將蝕刻缸和陽極室相連通，該蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽儲存來自于蝕刻缸中并用于供給至陽極室的蝕刻廢液，該再生蝕刻液槽將陽極室和蝕刻缸相連通，該再生蝕刻液槽儲存陽極室中再生蝕刻液并用于提供至蝕刻缸。

進一步，本實用新型再生系統(tǒng)還包括將陽極室和蝕刻缸相連通，并用于將陽極室中的氯氣導(dǎo)入至蝕刻缸中的射流裝置。

進一步，本實用新型再生系統(tǒng)還包括廢氣處理裝置，該廢氣處理裝置分別和陰極室、再生蝕刻液槽、蝕刻液中轉(zhuǎn)槽相連通。

進一步，本實用新型再生系統(tǒng)還包括與陰極室相連通并提供給陰極室氯離子的氯化物儲存槽。

進一步，本實用新型再生系統(tǒng)中的廢氣處理裝置還包括堿液噴淋裝置。

本實用新型再生系統(tǒng)，利用氯離子電解原理產(chǎn)生強氧化劑氯氣，氧化蝕刻廢液中的亞銅離子，解決了現(xiàn)有技術(shù)中額外地添加氧化劑來氧化亞銅離子的技術(shù)問題，降低了生成成本，而且不添加雜質(zhì)到再生的蝕刻液中，保證了再生的蝕刻液和新鮮的蝕刻液的一致性。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例一再生系統(tǒng)示意圖；

圖2是本實用新型實施例離子膜電解槽結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本實用新型實施例陰極室和氯化物儲存槽結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本實用新型實施例二再生系統(tǒng)示意圖；

圖5是本實用新型實施例三再生系統(tǒng)示意圖。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應(yīng)當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。

請參閱圖1，本實用新型實施例一的再生系統(tǒng)，包括蝕刻缸1、蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽2、離子膜電解槽3、再生蝕刻液槽4，該離子膜電解槽3分為陽極室31和陰極室32，該蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽2將蝕刻缸1和陽極室相連通31，該蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽2儲存蝕刻缸1中的蝕刻廢液并提供至陽極室31，該再生蝕刻液槽4將陽極室31和蝕刻缸1相連通，該再生蝕刻液槽4儲存陽極室31中的再生蝕刻液并提供至蝕刻缸1。

本實用新型實施例提供的含銅離子蝕刻液再生系統(tǒng)，蝕刻廢液中轉(zhuǎn)槽2和蝕刻缸1、陽極室31相連通，儲存蝕刻缸1中的蝕刻廢液，并且將該蝕刻廢液提供至陽極室31中，在陽極室31發(fā)生氧化反應(yīng)，將蝕刻廢液再生。陽極室31得到的再生蝕刻液儲存至再生蝕刻液槽4中并且通過再生蝕刻液槽4提供至蝕刻缸1中。

本實用新型實施例中蝕刻液含有銅離子，并且銅離子對蝕刻起主要作用；蝕刻廢液中含有少量的銅離子和大量的亞銅離子，這使得蝕刻液的蝕刻能力大大降低。

請參閱圖2，顯示本實用新型實施例離子膜電解槽的結(jié)構(gòu)。離子膜電解槽3中有一離子交換膜5，將離子膜電解槽3分為陽極室31和陰極室32，在陽極室31內(nèi)設(shè)置有陽極板33，該陽極板33是鈦涂層板；在陰極室32內(nèi)設(shè)置有陰極板34，該陰極板34是不銹鋼板；陽極板33、陰極板34分別和相應(yīng)的電流裝置連接。