[實用新型]一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統

有效

• 申請號: 201020567155.0
• 申請日: 2010-10-19
• 公開（公告）號: CN201834972U
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 吳超;李建光;何世武;李明軍;崔磊;王大定
• 申請（專利權）人: 深圳市潔馳科技有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46;C23F1/34
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 張全文

1.一種含銅離子酸性蝕刻液再生系統，其特征在于，所述再生系統包括蝕刻缸、蝕刻廢液中轉槽、離子膜電解槽、再生蝕刻液槽，所述離子膜電解槽通過離子交換膜分為陽極室和陰極室，所述蝕刻廢液中轉槽將蝕刻缸和陽極室相連通，所述蝕刻廢液中轉槽儲存來自于蝕刻缸中并用于供給至陽極室的蝕刻廢液，所述再生蝕刻液槽將陽極室和蝕刻缸相連通，所述再生蝕刻液槽儲存陽極室中再生蝕刻液并用于提供至蝕刻缸。

2.如權利要求1所述的含銅離子酸性蝕刻液再生系統，其特征在于：所述再生系統還包括將陽極室和蝕刻缸相連通，并用于將陽極室中的氯氣導入至蝕刻缸中的射流裝置。

3.如權利要求1或2所述的含銅離子酸性蝕刻液再生系統，其特征在于：所述再生系統還包括廢氣處理裝置，所述廢氣處理裝置分別和陰極室、再生蝕刻液槽、蝕刻液中轉槽相連通。

4.如權利要求3所述的含銅離子酸性蝕刻液再生系統，其特征在于：所述再生系統還包括與陰極室相連通并提供給陰極室氯離子的氯化物儲存槽。

5.如權利要求3所述的含銅離子酸性蝕刻液再生系統，其特征在于，所述廢氣處理裝置還包括堿液噴淋裝置。