[實用新型]非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備有效
| 申請號: | 201020540460.0 | 申請日: | 2010-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN201801589U | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發明(設計)人: | 陳五奎;李文江;任陳平;劉強;黃振華 | 申請(專利權)人: | 深圳市拓日新能源科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/24 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 非晶硅 薄膜 等離子體 增強 化學 沉積 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及太陽能電池生產領域,更具體地說,是涉及一種非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備。
背景技術
近年來,太陽能作為一種新的能源已經在很多領域得到利用。隨著光伏產業迅猛發展,利用太陽能進行光電轉換為人類提供電能又是對太陽能利用的一種最主要的方式,實現這個轉換過程的基本裝置就是太陽能電池。太陽能電池因具有永久性、清潔性和靈活性的優點而成為一種大有前途的新型電源。
太陽能電池板是太陽能電池的核心部分,其作用是將太陽能轉化為電能,或送往蓄電池中存儲起來,或推動負載工作。太陽能電池板(Solar?panel)主要分為晶體硅電池板和薄膜電池板。其中薄膜太陽能電池板以其低廉的成本在光伏行業中的比重迅速攀升,隨著節能和節約成本的產業發展趨勢,薄膜太陽能電池的發展必將成為主流。在制造薄膜太陽能電池板的過程中,會用到等離子體增強化學氣相沉積法,該方法具有反應溫度低、沉積速率快、成膜質量好等優點。
當然,利用等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)制造薄膜太陽能電池板會涉及用到等離子體增強化學氣相設備,該設備集成了真空、化學、物理、機械、電器、高頻等各方面的技術,是一個極為復雜的系統。從目前的發展來看,非晶硅薄膜太陽能電池在制造時用到的等離子體增強化學氣相設備還存在很多問題,比如:不能沉積大尺寸非晶硅薄膜,沉積薄膜厚度不均勻、質量不穩定、生產效率比較低等。自主研制生產太陽能電池的等離子體增強化學氣相設備,對提升我國太陽能行業的裝備制造業和太陽能產業鏈整體技術具有極大的推動作用,還能夠降低我國太陽能產業對進口設備的依賴,增強行業的國際市場競爭力,推動國內太陽能能源的發展,緩解能源使用危機。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題在于提供一種非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,利用該設備,可以沉積大尺寸非晶硅薄膜,且沉積的薄膜厚度均勻、質量穩定,并能提高生產效率。
為解決上述技術問題,本實用新型的采用的技術方案是:提供一種非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,包括一等離子腔體、加熱系統、氣路系統、真空系統、供電系統、夾具,所述等離子腔體為可密閉的圓筒形單腔室,與真空系統及氣路系統相連,所述夾具置于所述等離子腔體內,所述加熱系統為一設有加熱器的油箱,設置于所述等離子腔體下方,所述供電系統由多個控制單元組成,所述夾具上設有多個供電端口,該多個控制單元分別與該多個供電端口一一對應相連接。
進一步地,所述夾具包括由兩側板、一前擋板和一后蓋構成的金屬外殼,所述金屬外殼圍合形成的腔體內設有一氣路板、復數個電極,所述兩側板、前擋板、后蓋、氣路板相互兩兩絕緣連接,所述氣路板上具有均勻分布的通孔,所述復數個電極由多個導電平板排列而成,與所述兩側板平行,且與所述兩側板共同構成電極,相鄰兩電極之間的空間為放置待沉積電池基板的位置,于所述前擋板上,設有多個可采用非干擾式供電的電極端口。
進一步地,在所述等離子腔體的側面配合設置一腔門,所述腔門與所述等離子腔體之間設有互鎖裝置。
進一步地,所述夾具的電極兩個一組與所述供電端口分別單獨聯接。
進一步地,所述等離子腔體內靠底部位置在腔室的長度方向上設有導軌,所述夾具的底部設置有復數個車輪,并與所述導軌相配合。
本實用新型提供的非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,由于等離子腔體采用的是圓筒形單腔室,從而能夠保證真空狀態腔壁的應力均勻;采用油加熱方式進行加熱,提高了溫度的準確性和均勻性;供電系統采用各組電極單獨供電的非干擾設計,有效保證等離子體的均勻性;同時還采用了平板電極夾具,整套設備的設計可以沉積大尺寸非晶硅薄膜太陽能電池板,并能保證沉積的薄膜厚度均勻、質量穩定,且提高生產效率。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例提供的非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備的立體結構示意圖;
圖2為本實用新型實施例提供的非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備中的薄膜太陽能電池板沉積夾具的立體結構示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型所要解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





