[實用新型]非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備有效
| 申請號: | 201020540460.0 | 申請日: | 2010-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN201801589U | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發明(設計)人: | 陳五奎;李文江;任陳平;劉強;黃振華 | 申請(專利權)人: | 深圳市拓日新能源科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/24 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 非晶硅 薄膜 等離子體 增強 化學 沉積 設備 | ||
1.一種非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,包括一等離子腔體、加熱系統、氣路系統、真空系統、供電系統、夾具,其特征在于:所述等離子腔體為可密閉的圓筒形單腔室,與真空系統及氣路系統相連,所述夾具置于所述等離子腔體內,所述加熱系統為一設有加熱器的油箱,設置于所述等離子腔體下方,所述供電系統由多個控制單元組成,所述夾具上設有多個供電端口,該多個控制單元分別與該多個供電端口一一對應相連接。
2.根據權利要求1所述的非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,其特征在于:所述夾具包括由兩側板、一前擋板和一后蓋構成的金屬外殼,所述金屬外殼圍合形成的腔體內設有一氣路板、復數個電極,所述兩側板、前擋板、后蓋、氣路板相互兩兩絕緣連接,所述復數個電極由多個導電平板排列而成,與所述兩側板平行,且與所述兩側板共同構成電極,相鄰兩電極之間的空間為放置待沉積電池基板的位置,所述氣路板上具有均勻分布的通孔,于所述前擋板上,設有多個可采用非干擾式供電的電極端口。
3.根據權利要求1或2所述的非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,其特征在于:在所述等離子腔體的側面配合設置一腔門,所述腔門與所述等離子腔體之間設有互鎖裝置。
4.根據權利要求2所述的非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,其特征在于:所述夾具的電極兩個一組與所述供電端口分別單獨聯接。
5.根據權利要求1或2或4任一項所述的非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,其特征在于:所述等離子腔體內靠底部位置在腔室的長度方向上設有導軌,所述夾具的底部設置有復數個車輪,并與所述導軌相配合。
6.根據權利要求3所述的非晶硅薄膜等離子體增強化學氣相沉積設備,其特征在于:所述等離子腔體內靠底部位置在腔室的長度方向上設有導軌,所述夾具的底部設有復數個車輪,并與所述導軌相配合。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市拓日新能源科技股份有限公司,未經深圳市拓日新能源科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201020540460.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:陽極炭塊及陽極垛
- 下一篇:鋁合金活塞噴霧淬火熱處理裝置
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





