[實用新型]一種涂膠顯影機臺有效
| 申請號: | 201020539780.4 | 申請日: | 2010-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN201765433U | 公開(公告)日: | 2011-03-16 |
| 發明(設計)人: | 魯旭光;陳曉琪;胡清強;王波 | 申請(專利權)人: | 和艦科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/16 | 分類號: | G03F7/16;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 215025 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 涂膠 顯影 機臺 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種晶片加工裝置,特別涉及一種涂膠顯影機臺。
背景技術
在光刻技術中,光阻是將光罩圖案轉移至晶片圖案的轉移程序中不可或缺的一環。由于光阻的圖案基本上即是半導體底材上的圖案,因此,要確保光阻的圖案和光罩的圖案一致。
TRACK(涂膠顯影機臺)的作用即是將光罩圖案轉移至晶片,涂膠顯影機臺包含有光阻容器,光阻容器作為光阻緩存區用于存放光阻。為了檢測光阻緩存區是否有氣泡,涂膠顯影機臺需要對光阻緩存區進行光阻偵測。目前,光阻偵測只能偵測到光阻緩存區的輸入端以及輸出端是否有氣泡,當更換光阻時,涂膠顯影機臺無法偵測到光阻緩存區氣泡是否已排除干凈。光阻緩存區內存在氣泡,會導致光阻在晶片表面上涂蓋不連續,使晶片的蝕刻良率或可靠度降低,嚴重的會引起晶片報廢。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種涂膠顯影機臺,其可準確偵測光阻緩存區內氣泡是否完全排除干凈,有效提高晶片的蝕刻良率和可靠度。
為了達到上述目的,本實用新型所采用的技術方案是:
一種涂膠顯影機臺,包含光阻容器,所述光阻容器上設置有輸入管路、輸出管路和排空管路,所述輸入管路和輸出管路上分別設置有檢測管路內是否有氣泡的輸入端傳感器和輸出端傳感器,所述排空管路上設置有用于檢測排空管路內是否有氣泡的排空端傳感器。
進一步地,包含與門電路,所述與門電路的輸入端分別與所述輸入端傳感器、排空端傳感器相連,所述與門電路的輸出端與所述涂膠顯影機臺的報警裝置相連。
本實用新型的涂膠顯影機臺通過在光阻容器的排空管路上加裝排空端傳感器,在光阻容器中的氣泡沒有完全排除時,涂膠顯影機臺會持續報警。本實用新型能夠在不改變機臺軟件的情況下良好的偵測機臺光阻緩存區是否有氣泡,從而避免因光阻緩存區氣泡沒有排除干凈而產生的晶片蝕刻良率或可靠度降低的問題。
附圖說明
圖1為現有技術中涂膠顯影機臺的光阻容器中充滿光阻時的結構示意圖;
圖2為圖1所示的涂膠顯影機臺的光阻容器的輸入管路中沒有光阻存在時的結構示意圖;
圖3為圖1所示的涂膠顯影機臺的光阻容器中氣泡未排除干凈時的結構示意圖;
圖4為本實用新型的涂膠顯影機臺優選實施例的結構示意圖。
附圖標記說明
A管路:輸入管路
B管路:輸出管路
C管路:排空管路
A傳感器輸入端傳感器
B傳感器輸出端傳感器
C傳感器排空端傳感器
具體實施方式
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,下面結合附圖及實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅用以解釋本發明,并不用于限定本發明。
如圖4所示,本實用新型提供一種涂膠顯影機臺,包含光阻容器,光阻容器上設置有輸入管路(即A管路)、輸出管路(B管路)和排空管路(C管路),輸入管路上設置有用于檢測輸入管路是否有氣泡的輸入端傳感器(A傳感器),輸出管路上設置有用于檢測輸出管路是否有氣泡的輸出端傳感器(B傳感器),排空管路(C管路)上設置有用于檢測排空管路是否有氣泡的排空端傳感器(C傳感器)。
本實用新型的涂膠顯影機臺通過在光阻容器的排空管路上加裝排空端傳感器,在光阻容器中的氣泡沒有完全排除時,涂膠顯影機臺會持續報警。本實用新型能夠在不改變機臺軟件的情況下良好的偵測機臺光阻緩存區是否有氣泡,從而避免因光阻緩存區氣泡沒有排除干凈而產生的晶片蝕刻良率或可靠度降低的問題。
優選地,本實用新型的涂膠顯影機臺包含與門電路,該與門電路的輸入端分別與輸入端傳感器、排空端傳感器相連,該與門電路的輸出端與涂膠顯影機臺的報警裝置相連,當輸入管路和排空管路內均沒有氣泡時,涂膠顯影機臺才會解除報警,這樣可以更好的偵測光阻緩沖區的氣泡已排除干凈。
可以想到的是,排空端傳感器與涂膠顯影機臺的連接方式不限于通過與門電路,排空端傳感器發出信號使涂膠顯影機臺報警的任何連接方式(例如排空端傳感器直接與涂膠顯影機臺的報警裝置相連)均可應用于本實用新型。
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