[實用新型]一種C/C平板化學氣相沉積分氣系統有效
| 申請號: | 201020292479.8 | 申請日: | 2010-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN201817547U | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發明(設計)人: | 侯衛權;李永軍;李樹芳;薛寧娟;蘇君明;彭志剛 | 申請(專利權)人: | 西安超碼科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 西安創知專利事務所 61213 | 代理人: | 譚文琰 |
| 地址: | 710025*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平板 化學 沉積 系統 | ||
1.一種C/C平板化學氣相沉積分氣系統,包括均勻布設在相鄰C/C平板(1)之間兩側的石墨墊塊(2)和位于底部C/C平板(1)下方的爐底石墨板(3),所述爐底石墨板(3)中心設置有爐底進氣通孔(4),其特征在于:所述相鄰C/C平板(1)之間中心位置處設置有分氣裝置(5),所述分氣裝置(5)為倒置的石墨圓筒,所述分氣裝置(5)上部中心設置有圓形通孔一(6)且所述圓形通孔一(6)的直徑由下至上逐漸遞減,所述分氣裝置(5)側壁均勻設置有圓形通孔二(7)。
2.按照權利要求1所述的一種C/C平板化學氣相沉積分氣系統,其特征在于:所述圓形通孔一(6)的直徑為20mm~80mm。
3.按照權利要求1所述的一種C/C平板化學氣相沉積分氣系統,其特征在于:所述圓形通孔二(7)的直徑為20mm~40mm。
4.按照權利要求1或3所述的一種C/C平板化學氣相沉積分氣系統,其特征在于:所述圓形通孔二(7)的數量為4~12個。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





