[實用新型]一種C/C平板化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201020292479.8 | 申請日: | 2010-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN201817547U | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 侯衛(wèi)權(quán);李永軍;李樹芳;薛寧娟;蘇君明;彭志剛 | 申請(專利權(quán))人: | 西安超碼科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 西安創(chuàng)知專利事務(wù)所 61213 | 代理人: | 譚文琰 |
| 地址: | 710025*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 平板 化學(xué) 沉積 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種分氣系統(tǒng),尤其是涉及一種C/C平板化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng)。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù)中,用于生產(chǎn)C/C平板的化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng)是由均勻布設(shè)在相鄰C/C平板之間兩側(cè)的石墨墊塊和位于底部C/C平板下方的爐底石墨板組成,其在使用過程中存在以下缺點:1、氣體不能充分在C/C平板處滯留,影響了產(chǎn)品的致密度;2、氣體不能自動引向爐內(nèi)上部,影響了上層產(chǎn)品的致密度;3、一次生產(chǎn)時的裝爐量小。
實用新型內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題在于針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種C/C平板化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng),其結(jié)構(gòu)簡單、設(shè)計合理且使用操作方便,能有效提高上層產(chǎn)品的致密度,使得每層C/C平板密度均勻一致,同時具有重量小、使用輕便、裝爐量大和適用范圍廣的特點。
為解決上述技術(shù)問題,本實用新型采用的技術(shù)方案是:一種C/C平板化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng),包括均勻布設(shè)在相鄰C/C平板之間兩側(cè)的石墨墊塊和位于底部C/C平板下方的爐底石墨板,所述爐底石墨板中心設(shè)置有爐底進(jìn)氣通孔,其特征在于:所述相鄰C/C平板之間中心位置處設(shè)置有分氣裝置,所述分氣裝置為倒置的石墨圓筒,所述分氣裝置上部中心設(shè)置有圓形通孔一且所述圓形通孔一的直徑由下至上逐漸遞減,所述分氣裝置側(cè)壁均勻設(shè)置有圓形通孔二。
上述的一種C/C平板化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng),其特征在于:所述圓形通孔一的直徑為20mm~80mm。
上述的一種C/C平板化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng),其特征在于:所述圓形通孔二的直徑為20mm~40mm。
上述的一種C/C平板化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng),其特征在于:所述圓形通孔二的數(shù)量為4~12個。
本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點:
1、結(jié)構(gòu)簡單,設(shè)計合理,其通過在相鄰C/C平板之間中心位置處設(shè)置分氣裝置,該分氣裝置為倒置的石墨圓筒,其上部中心設(shè)置有圓形通孔一且圓形通孔一的直徑由下至上逐漸遞減,分氣裝置側(cè)壁均勻設(shè)置有圓形通孔二。
2、使用操作方便,由于圓形通孔一的設(shè)置使得經(jīng)進(jìn)氣通孔后的氣體上下擴(kuò)散并引至上部產(chǎn)品,且由于圓形通孔一的直徑由下至上逐漸遞減,使得氣體向上流動的阻力增大,延長了氣體在C/C平板處的滯留時間,并使得氣體在爐內(nèi)均勻分布,同時配合圓形通孔二,使得氣體水平擴(kuò)散并引至C/C平板之間的縫隙,因此本實用新型能有效提高產(chǎn)品的致密度,提高每件產(chǎn)品密度的均勻性。
3、由于氣體在爐內(nèi)和C/C平板處的滯留時間加長,因此可增加一次生產(chǎn)時的裝爐量,進(jìn)而提高了C/C平板的生產(chǎn)效率。
4、由于選用在高溫條件下強(qiáng)度大的石墨作為分氣裝置的原材料,因此本實用新型還具有耐高溫和高溫條件不易變形的特點。
5、本實用新型還具有重量小、使用輕便和適用范圍廣的特點,可有效適用至各類C/C平板的生產(chǎn)制作過程中。
下面通過附圖和實施例,對本實用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
附圖說明
圖1為本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實用新型分氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記說明:
1-C/C平板;????????2-石墨墊塊;????3-爐底石墨板;
4-爐底進(jìn)氣通孔;???5-分氣裝置;????6-圓形通孔一;
7-圓形通孔二。
具體實施方式
如圖1和2所示的一種C/C平板化學(xué)氣相沉積分氣系統(tǒng),包括均勻布設(shè)在相鄰C/C平板1之間兩側(cè)的石墨墊塊2和位于底部C/C平板1下方的爐底石墨板3,所述爐底石墨板3中心設(shè)置有爐底進(jìn)氣通孔4,所述相鄰C/C平板1之間中心位置處設(shè)置有分氣裝置5,所述分氣裝置5為倒置的石墨圓筒,所述分氣裝置5上部中心設(shè)置有圓形通孔一6且所述圓形通孔一6的直徑由下至上逐漸遞減,所述分氣裝置5側(cè)壁均勻設(shè)置有圓形通孔二7。
本實用新型中,所述圓形通孔一6的直徑為20mm~80mm。
本實用新型中,所述圓形通孔二7的直徑為20mm~40mm。
本實用新型中,所述圓形通孔二7的數(shù)量為4~12個。
本實用新型的工作原理為:通過利用分氣裝置5上部中心的圓形通孔一6將經(jīng)進(jìn)氣通孔4后的氣體上下擴(kuò)散并引至上部產(chǎn)品,且由于圓形通孔一6的直徑由下至上逐漸遞減,使得氣體向上流動的阻力增大,延長了氣體在C/C平板1處的滯留時間,并使得氣體在爐內(nèi)均勻分布,進(jìn)而提高了產(chǎn)品的致密度;同時配合設(shè)置在分氣裝置5側(cè)壁的圓形通孔二7,使得氣體水平擴(kuò)散并引至C/C平板1之間的縫隙,進(jìn)一步提高了產(chǎn)品的致密度,提高每件產(chǎn)品密度的均勻性,另外也增加了一次生產(chǎn)時的裝爐量,提高了C/C平板的生產(chǎn)效率。
以上所述,僅是本實用新型的較佳實施例,并非對本實用新型作任何限制,凡是根據(jù)本實用新型技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、變更以及等效結(jié)構(gòu)變化,均仍屬于本實用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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