[實(shí)用新型]一種排壓裝置及帶排壓裝置的化學(xué)藥品儲存裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201020246507.2 | 申請日: | 2010-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN201729437U | 公開(公告)日: | 2011-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳良輝;汪亞軍;何顯雙 | 申請(專利權(quán))人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;武漢新芯集成電路制造有限公司 |
| 主分類號: | B65D90/32 | 分類號: | B65D90/32;B65D90/48;B65D88/02 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 20120*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 裝置 帶排壓 化學(xué)藥品 儲存 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種化學(xué)藥品儲存領(lǐng)域,尤其涉及一種危險易分解的化學(xué)藥品的排壓裝置及帶排壓裝置的化學(xué)藥品儲存裝置。
背景技術(shù)
隨著超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,集成度的不斷提高,線寬的不斷減小,對硅片的質(zhì)量要求也越來越高,特別是對硅拋光片的表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)。這主要是因為拋光片表面的顆粒和金屬雜質(zhì)沾污會嚴(yán)重影響器件的質(zhì)量和成品率。在目前的集成電路生產(chǎn)中,由于硅拋光片表面沾污問題,仍有大量的材料被損失掉。在硅晶體管和集成電路生產(chǎn)中,幾乎每道工序都有硅片清洗的問題,硅片清洗的好壞對器件性能有嚴(yán)重的影響,處理不當(dāng),可能使全部硅片報廢,做不出管子來,或者制造出來的器件性能低劣,穩(wěn)定性和可靠性很差。
而在硅片的清洗過程中以及集成電路產(chǎn)品的制造過程中,需使用大量的化學(xué)藥品,這些化學(xué)藥品一般是由廠務(wù)通過管道注入到化學(xué)罐中,由化學(xué)罐進(jìn)行儲存,需使用化學(xué)藥品時,再從化學(xué)罐中將該化學(xué)藥品通入到處理罐中,接著進(jìn)行相應(yīng)的處理程序。通常來說儲存化學(xué)藥品的化學(xué)罐裝在一個匣子里,該匣子集成在半導(dǎo)體制造機(jī)臺中。
請參考圖1,圖1為現(xiàn)有的化學(xué)藥品儲存裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,由圖1可知,現(xiàn)有的化學(xué)藥品儲存裝置包括化學(xué)罐10、進(jìn)液管路20、進(jìn)液氣壓平衡管路30以及出液管路;所述進(jìn)液管路20上設(shè)有第二充氣閥21,所述進(jìn)液管路20與廠務(wù)相應(yīng)化學(xué)藥品設(shè)備相連,以便從所述廠務(wù)注入化學(xué)藥品至所述化學(xué)罐10中;所述進(jìn)液氣壓平衡管路30上設(shè)置有第三充氣閥31,以便在廠務(wù)向所述化學(xué)罐10內(nèi)注入化學(xué)藥品時,排出所述化學(xué)罐10內(nèi)的氣體,使所述化學(xué)罐10內(nèi)的氣壓與外界氣壓相等,從而使化學(xué)藥品能順利注入到所述化學(xué)罐10內(nèi);所述出液管路包括控制管路41及液體管路42,所述控制管路41的一端插入所述化學(xué)罐10的上部,另一端與一氮?dú)馄肯噙B,所述控制管路41上設(shè)置有第四充氣閥411及氣體流量控制器412;所述液體管路42的一端插入所述化學(xué)罐10的底部,另一端流出化學(xué)藥品供使用,所述液體管路42上設(shè)置有液體流量控制器421、第五充氣閥422以及過濾器423。
同時,所述化學(xué)罐10上從下向上依次設(shè)置有第一液位監(jiān)測傳感器50、第二液位監(jiān)測傳感器51以及第三液位監(jiān)測傳感器52,以監(jiān)測所述化學(xué)罐10內(nèi)的液位,以便廠務(wù)及時向所述化學(xué)罐10內(nèi)注入化學(xué)藥品。
并且,現(xiàn)有的化學(xué)藥品儲存裝置還包括匣子60、排氣管道70、泄露監(jiān)測傳感器80以及清洗管路90;所述化學(xué)罐10設(shè)置于所述匣子60中,所述匣子60設(shè)置于半導(dǎo)體制造機(jī)臺中;所述排氣管道70設(shè)置于所述匣子60上,以保持所述匣子60內(nèi)部的氣壓與外界大氣壓相等;所述泄露監(jiān)測傳感器80設(shè)置于所述匣子60的底部,以監(jiān)測所述化學(xué)罐10是否發(fā)生泄露;所述清洗管路90與所述化學(xué)罐10相連,向所述化學(xué)罐10內(nèi)注入去離子水,以便對所述化學(xué)罐10及其相關(guān)管路進(jìn)行清洗和維護(hù),并且所述清洗管路上設(shè)置有第六充氣閥91。
然而,由于有些化學(xué)藥品性質(zhì)不穩(wěn)定,容易分解產(chǎn)生氣體,從而造成化學(xué)罐2內(nèi)的氣壓升高。例如雙氧水,容易發(fā)生如下分解反應(yīng):2H2O2=2H2O+O2,產(chǎn)生水和氧氣,所產(chǎn)生的氧氣導(dǎo)致化學(xué)罐2內(nèi)的氣壓升高,當(dāng)化學(xué)罐2內(nèi)的氣壓升高到一定程度時,容易導(dǎo)致爆炸等危險,從而造成損失。
因此,有必要對現(xiàn)有的化學(xué)藥品儲存裝置進(jìn)行改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種排壓裝置及帶排壓裝置的化學(xué)藥品儲存裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)中的化學(xué)藥品儲存裝置沒有設(shè)置排壓裝置,從而在儲存易分解的化學(xué)藥品時,容易導(dǎo)致化學(xué)罐內(nèi)的氣壓過高而導(dǎo)致爆炸,造成損失的問題。
為解決上述問題,本實(shí)用新型提出一種排壓裝置,用于排放密閉容器內(nèi)的液體或氣體,以避免所述密閉容器內(nèi)的壓力過大,該排壓裝置包括壓力測量儀、閥控制器以及第一充氣閥,所述壓力測量儀與所述密閉容器相連;所述閥控制器的一端與所述壓力測量儀相連,另一端與所述第一充氣閥相連,控制所述第一充氣閥的開關(guān);所述第一充氣閥設(shè)置于一第一管道上,所述第一管道與所述密閉容器相連。
可選的,該排壓裝置還包括手動閥及第二管道,所述手動閥設(shè)置在所述第二管道上,所述第二管道并聯(lián)在所述第一充氣閥的兩端,且所述第二管道與所述第一管道連通。
可選的,該排壓裝置還包括廢棄容器,所述第一管道的一端與所述密閉容器相連,另一端與所述廢棄容器相連。
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