[實用新型]玻璃基板的檢測設備和干法刻蝕設備有效
| 申請號: | 201020246462.9 | 申請日: | 2010-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN201803915U | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發明(設計)人: | 徐偉齊 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N7/00 | 分類號: | G01N7/00;G02F1/1333;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 劉芳 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 檢測 設備 刻蝕 | ||
1.一種玻璃基板的檢測設備,其特征在于,包括:
具有多個檢測氣孔的載臺,所述多個檢測氣孔位于所述載臺上所述玻璃基板的覆蓋區域;
與所述多個檢測氣孔相連通的檢測管路,所述檢測管路用于向所述多個檢測氣孔通入氣體;
與所述檢測管路相連接的檢測元件,所述檢測元件用于檢測通入所述檢測氣孔的氣體流量或壓力以確定所述玻璃基板是否存在裂縫。
2.根據權利要求1所述的玻璃基板的檢測設備,其特征在于,還包括報警器;所述報警器與所述檢測元件電性連接,用于當所述檢測元件檢測到所述檢測氣孔的氣體流量或壓力不正常時,發出報警信號。
3.根據權利要求1或2所述的玻璃基板的檢測設備,其特征在于,所述檢測氣孔的孔徑為0.5mm-3mm。
4.根據權利要求1或2所述的玻璃基板的檢測設備,其特征在于,所述多個檢測氣孔之間的距離范圍在10~50mm之間。
5.一種利用權利要求1所述的玻璃基板的檢測設備進行干法刻蝕的設備,包括真空腔室內相對設置的上部電極和下部電極,所述上部電極和所述下部電極用于對放置于所述下部電極上的玻璃基板施加電場,其特征在于,所述下部電極即為所述玻璃基板的檢測設備中的所述載臺,所述多個檢測氣孔位于所述下部電極上靠近所述玻璃基板覆蓋區域的邊緣位置,所述玻璃基板的檢測設備還用于檢測所述下部電極與所述玻璃基板之間是否存在異物。
6.根據權利要求5所述的干法刻蝕設備,其特征在于,所述下部電極的四周具有陶瓷塊,所述陶瓷塊上具有多個所述檢測氣孔。
7.根據權利要求5或6所述的干法刻蝕設備,其特征在于,所述下部電極上靠近所述玻璃基板覆蓋區域的邊緣位置為:距離所述玻璃基板覆蓋區域邊緣3~10cm的位置。
8.根據權利要求5所述的干法刻蝕設備,其特征在于,所述下部電極的中心區域具有氣孔,所述氣孔與所述檢測管路相連,所述氣孔用于通入氣體以冷卻所述玻璃基板;
在所述檢測管路中,與所述檢測氣孔相連的管路上設置有閥門,所述閥門用于調節通向所述檢測氣孔的氣體流量或壓力。
9.根據權利要求8所述的干法刻蝕設備,其特征在于,還包括閥門控制器;所述閥門控制器與所述閥門相連接,用于控制所述閥門的動作。
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