[實用新型]分子泵結構鍍膜用單元式真空室

有效

• 申請號: 201020190002.9
• 申請日: 2010-05-12
• 公開（公告）號: CN201686741U
• 公開（公告）日: 2010-12-29
• 發明（設計）人: 李桂良;蘇宜龍
• 申請（專利權）人: 上海子創鍍膜技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 上海衡方知識產權代理有限公司 31234
• 代理人: 卞孜真

技術領域

本實用新型涉及到一種鍍膜緩沖裝置，尤其涉及到一種分子泵結構真空磁控鍍膜用單元式真空裝置，屬于金屬鍍膜加工裝置領域。

背景技術

隨著高真空鍍膜設備質量和技術的提高，磁懸浮高速旋轉分子泵技術的不斷完善，同時由于分子泵電耗少、不會產生真空油污染現象、可獲得真空度高，可滿足高質量鍍膜真空環境的要求，所以真空鍍膜設備使用分子泵的越來越多，但目前鍍膜真空室設計分子泵組位置和濺射陰極位置不能互換，濺射陰極排布受到一定限制，造成產品工藝不太靈活，鍍膜維護次數頻繁，獲得的產品質量不穩定，產能效率低，使用成本高，不能滿足目前高質量鍍膜工藝生產的要求。

實用新型內容

本實用新型目的是為了克服現有技術中鍍膜真空室設計分子泵組位置和濺射陰極位置不能互換的缺陷，提供一種分子泵結構鍍膜用單元式真空室。

為了達到上述的目的，本實用新型提供的技術方案是一種分子泵結構鍍膜用單元式真空室，包含一個大真空腔室，其中，所述大真空腔室通過隔板分割成若干個相同的真空單元，所述每個真空單元邊側覆蓋有真空蓋板，所述真空蓋板為框架結構，所述真空單元頂端設置有陰極蓋板，所述陰極蓋板徑向中心線位置處從上至下均勻設置有至少一個以上的分子泵安裝法蘭，所述分子泵安裝法蘭上安裝有分子泵，所述陰極蓋板四角邊沿上對稱安裝有旋轉陰極安裝孔，所述旋轉陰極安裝孔安裝有濺射陰極。

進一步的技術方案是所述真空單元與所述真空蓋板連接處為雙道密封連接，在所述雙封密封連接處設置有雙封密封圈。

進一步的技術方案是所述隔板上均勻排列設置有若干個通氣孔，其作為相鄰兩個真空單元氣氛對流的通孔。

優先的方案是所述隔板與陰極蓋板連接處采用雙道密封連接，并在密封處開有一個抽氣檢漏裝置孔，檢測孔連接到抽氣檢漏裝置，以便檢測真空單元的密封性。

優先的方案是所述真空單元內設置有旋轉陰極端頭，所述端頭可帶動陰極蓋板轉動，當陰極蓋板轉到覆蓋濺射陰極時，分子泵工作，而濺射陰極停止工作，當陰極蓋板轉到覆蓋分子泵時，濺射陰極工作，而分子泵停止工作。

優先的方案是所述真空單元內還設置有工藝氣管、固定夾板、冷卻擋板、輥道、可調輥道支撐、冷卻擋板支撐，其中，所述輥道兩端設置在可調輥道支撐上。

優先的方案是所述冷卻擋板設置在輥道上端，所述冷卻擋板由冷卻擋板支撐固定。

優先的方案是在所述隔板上，通氣孔下端還設置有玻璃通道孔，所述玻璃通道孔用于鍍膜基片的進出口。

與現有技術相比，本實用新型的技術效果是提供一種可使分子泵組與濺射陰極位置互換的分子泵結構鍍膜用單元式真空室，實現分子泵組和濺射陰極互相備用，提高鍍膜工藝的靈活性，減少鍍膜維護的次數，提高設備的產能，降低產品的成本。

附圖說明

圖1、本實用新型的真空單元剖面示意圖；

圖2、本實用新型大真空腔室俯視結構示意圖；

圖3、本實用新型隔板與陰極蓋板連接示意圖；

圖4、本實用新型雙道密封結構局部放大示意圖。

1-真空蓋板；2-固定夾板；3-工藝氣管；4-冷卻擋板；5-輥道；6-真空單元；7-可調輥道支撐；40-冷卻擋板支撐；8-隔板；9-陰極蓋板；10-通氣孔；11-玻璃通道孔；12-雙道密封圈；13-旋轉陰極端頭；14-抽氣檢漏裝置；15-分子泵安裝法蘭；16-旋轉陰極安裝孔；18-觀察窗；19-抽氣檢漏裝置孔；100-大真空腔室。

具體實施方式

為了更好的、更清楚的表達本實用新型的技術方案，下面結合附圖對本實用新型做進一步的說明。