[實用新型]具有真空泵保護結構的真空濺射鍍膜設備

無效

• 申請號: 201020186355.1
• 申請日: 2010-05-11
• 公開（公告）號: CN201704399U
• 公開（公告）日: 2011-01-12
• 發明（設計）人: 黃國興
• 申請（專利權）人: 赫得納米科技(昆山)有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本實用新型涉及濺射鍍膜設備技術領域，特別是涉及一種具有真空泵保護結構的真空濺射鍍膜設備。

背景技術

在真空設備運用中，真空泵作為一種從真空室抽除氣體分子的設備，品種多樣，安裝方式各不相同，作為設備達到真空的部件之一，有著極其重要性的地位。目前相關設備實際使用過程中，靶材濺射時中性的靶原子(或分子)在沉積于基片上形成薄膜的同時也會沉積于與真空腔體相連接的真空泵的葉片上，造成真空泵的失效，影響到產品的品質，并造成相關聯性設備的損壞。

實用新型內容

為了解決現有技術中，靶材濺射時，中性的靶原子(或分子)在沉積于基片上形成薄膜的同時也會沉積于與真空腔體相連接的真空泵的葉片上的問題，提供了一種具有較好保護功能的真空泵防護結構。

為了達到上述目的，本實用新型所采用的技術方案是：

一種具有真空泵保護結構的真空濺射鍍膜設備，包括分子泵，箱體，真空腔體，真空泵，在箱體內設置有真空腔體，其特征在于：還包括真空泵外罩和真空泵內罩，所述分子泵設置在箱體的上部，在分子泵與箱體相連接的位置設置有真空泵外罩，在真空泵外罩里面設置有真空泵內罩，所述真空泵與真空腔體貫通連接，且真空泵內罩將真空泵葉片罩住。

前述一種具有真空泵保護結構的真空濺射鍍膜設備，其特征在于：所述真空泵外罩的底邊高度高于真空泵內罩的底邊高度。

本實用新型的有益效果是：本實用新型在分子泵與箱體的連接部位設計有真空泵外罩和真空泵內罩的二層保護結構，真空泵外罩和真空泵內罩上設有側邊擋板，氣體從側邊擋板中間與下方抽出，從側邊飛濺過來的靶原子(或分子)被側邊擋板遮蔽，不能直接沉積于真空泵葉片上，能避免真空泵的失效，維護設備的正常運轉，避免了設備不安全因素的存在。同時真空泵外罩的底邊高度高于真空泵內罩的底邊高度，側邊擋板的長度不一樣，可以形成富有層次的保護結構，更好的對真空泵葉片進行保護。

附圖說明

圖1是本實用新型真空泵外罩俯視圖；

圖2是本實用新型真空泵外罩右視圖；

圖3是本實用新型真空泵內罩俯視圖；

圖4是本實用新型真空泵內罩右視圖；

圖5是本實用新型結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型做進一步的描述。

如圖所示，一種具有真空泵保護結構的真空濺射鍍膜設備，包括分子泵1，箱體2，真空腔體3，真空泵，真空泵外罩5和真空泵內罩6，在箱體2內設置有真空腔體3，所述分子泵1設置在箱體2的上部，通過鉚釘與箱體蓋板4固定連接，在箱體蓋板4的下方設置有真空泵外罩5，在真空泵外罩5里面設置有真空泵內罩6，真空泵外罩5的底邊高度高于真空泵內罩6的底邊高度。真空泵與真空腔體3貫通連接，且真空泵內罩6將真空泵葉片罩住。

真空泵外罩5和真空泵內罩6都設置有側邊擋板7，真空泵將氣體從側邊擋板7中間與下方抽出，同時真空泵內罩6將真空泵葉片罩住，靶材在濺射時，中性的靶原子(或分子)被側邊擋板7遮蔽，不能直接沉積于真空泵葉片上，避免了真空泵失效。

顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。