[實(shí)用新型]具有真空泵保護(hù)結(jié)構(gòu)的真空濺射鍍膜設(shè)備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020186355.1
• 申請日: 2010-05-11
• 公開（公告）號: CN201704399U
• 公開（公告）日: 2011-01-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃國興
• 申請（專利權(quán)）人: 赫得納米科技(昆山)有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.一種具有真空泵保護(hù)結(jié)構(gòu)的真空濺射鍍膜設(shè)備，包括分子泵，箱體，真空腔體，真空泵，在箱體內(nèi)設(shè)置有真空腔體，其特征在于：還包括真空泵外罩和真空泵內(nèi)罩，所述分子泵設(shè)置在箱體的上部，在分子泵與箱體相連接的位置設(shè)置有真空泵外罩，在真空泵外罩里面設(shè)置有真空泵內(nèi)罩，所述真空泵與真空腔體貫通連接，且真空泵內(nèi)罩將真空泵葉片罩住。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種具有真空泵保護(hù)結(jié)構(gòu)的真空濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述真空泵外罩的底邊高度高于真空泵內(nèi)罩的底邊高度。