[實用新型]一種等離子體清洗裝置

無效

• 申請號: 201020182329.1
• 申請日: 2010-05-04
• 公開（公告）號: CN201669245U
• 公開（公告）日: 2010-12-15
• 發明（設計）人: 周駿;林豪;仰明陽;顏飛彪
• 申請（專利權）人: 寧波大學
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 寧波奧圣專利代理事務所(普通合伙) 33226
• 代理人: 程曉明

技術領域

本實用新型涉及一種清洗裝置，尤其是涉及一種等離子體清洗裝置。

背景技術

在光學器件和微電子元件等的加工過程中，表面清洗技術具有十分重要的地位。目前，廣泛應用的物理化學清洗方法，從運行方式看，大致可分為兩種：濕法清洗和干法清洗。濕法清洗主要依靠物理和化學(溶劑)的作用，如通過化學活性劑的吸附、浸透、溶解和離散作用并輔以超聲波、噴淋、旋轉、沸騰、蒸汽和搖動等物理方法去除物件表面的污漬。在濕法清洗過程中，還需要后續的烘干及廢水處理工序，投入人員勞動保護和環境污染控制的成本較高。干法清洗主要有等離子清洗技術，其主要通過高真空下等離子體粒子與物件表面材料間的物理和化學反應機制，剝離式去除物件表面的污漬。相對濕法清洗而言，干法清洗無三廢排放、消耗成本低、清洗徹底，是一種效率高且綠色環保的清洗方法。此外，干法清洗過程中較高能量的等離子體還可對物件表面進行改性，改善物件表面的吸濕性、疏水性、防縮防皺、抗靜電及阻燃等，而且反應深度較低，不會損傷物件表面的力學性能。

由于干法清洗存在上述優勢，且等離子清洗技術發展較快，因此干法清洗技術不僅在半導體與光電工業中獲得了應用，而且逐漸在光學器件制備、精密機械加工、高分子材料處理、污染防治和環境保護等眾多領域中得到應用。然而，由于等離子清洗技術涉及等離子物理、等離子化學和材料氣固相界面特性的研究，需要集成化工、材料和電子機械等多種技術，因此，技術開發難度較大。另一方面，現有的相應的等離子體清洗設備也存在一些不足，如電容耦合式等離子體清洗裝置，其雖然可以產生較大口徑的等離子體，且制造工藝相對成熟，但是其產生的等離子體密度不高、工作壓強范圍較窄，且存在電極污染，使得其應用范圍受到一定限制。

發明內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種結構簡單、使用方便、工作壓強范圍大、無電極污染，且能夠產生高密度等離子體的等離子體清洗裝置。

本實用新型解決上述技術問題所采用的技術方案為：一種等離子體清洗裝置，包括主體設備和外圍設備，所述的外圍設備主要由氣體供應裝置、真空裝置和控制裝置組成，所述的控制裝置包括氣路單元和電路單元，所述的主體設備主要由微波系統和反應裝置組成，所述的微波系統包括微波室、設置于所述的微波室內的微波源及與所述的微波源電連接的微波控制電路，所述的反應裝置包括設置于所述的微波室內的石英罩、設置于所述的微波室內且設置于所述的石英罩下方的反應室底座及由所述的石英罩和所述的反應室底座圍成的空間構成的反應室，所述的微波控制電路通過主體設備電源線與所述的電路單元相連接，所述的反應室通過主進氣管與所述的氣路單元相連接，所述的反應室通過排氣管與所述的真空裝置相連接，所述的氣體供應裝置通過分進氣管與所述的氣路單元相連接，所述的真空裝置通過真空裝置電源線與所述的電路單元相連接。

所述的氣路單元包括電磁閥、氣體流量調節閥、流量計和真空表，所述的分進氣管與所述的電磁閥相連接，所述的電磁閥通過氣管與所述的氣體流量調節閥相連接，所述的氣體流量調節閥通過氣管與所述的流量計相連接，所述的流量計通過氣管與所述的主進氣管相連接，所述的主進氣管通過氣管與所述的真空表相連接。

所述的電路單元包括總電源、用于控制與所述的主體設備電連接的相應的電源插座及與所述的真空裝置電連接的相應的電源插座的通斷的設備電源控制部分、用于控制所述的電磁閥的通斷的進氣控制部分和用于外部控制操作的手動遙控控制部分，所述的總電源分別與所述的設備電源控制部分、所述的進氣控制部分及所述的手動遙控控制部分電連接。

所述的氣體供應裝置包括至少一個用于供應清洗反應氣體的氣瓶，所述的氣瓶通過所述的分進氣管與所述的電磁閥相連接。

所述的氣體供應裝置可以包括兩個所述的氣瓶，每個所述的氣瓶內分別裝有不同的清洗反應氣體，每個所述的氣瓶分別通過一個所述的電磁閥、一個所述的氣體流量調節閥及一個所述的流量計與所述的主進氣管相連接構成兩路氣路。

所述的微波室包括微波室腔體和與所述的微波室腔體活動配合的微波室腔門，所述的微波源設置于所述的微波室腔體的側壁或上方，所述的微波室腔門上設置有用于觀察清洗樣品過程的觀察窗口，所述的觀察窗口向內的一側面上安裝有微波屏蔽網。

所述的反應室底座緊貼設置于所述的微波室腔體的底面上，貫穿所述的反應室底座和所述的微波室腔體的底部設置有分別與所述的反應室相連通的進氣管頭和出氣管頭，所述的進氣管頭與所述的主進氣管相連接，所述的出氣管頭與所述的排氣管相連接，所述的反應室底座與所述的石英罩之間設置有密封橡膠圈。