[實用新型]一種等離子體清洗裝置

無效

• 申請號: 201020182329.1
• 申請日: 2010-05-04
• 公開（公告）號: CN201669245U
• 公開（公告）日: 2010-12-15
• 發明（設計）人: 周駿;林豪;仰明陽;顏飛彪
• 申請（專利權）人: 寧波大學
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 寧波奧圣專利代理事務所(普通合伙) 33226
• 代理人: 程曉明

1.一種等離子體清洗裝置，包括主體設備和外圍設備，所述的外圍設備主要由氣體供應裝置、真空裝置和控制裝置組成，其特征在于所述的控制裝置包括氣路單元和電路單元，所述的主體設備主要由微波系統和反應裝置組成，所述的微波系統包括微波室、設置于所述的微波室內的微波源及與所述的微波源電連接的微波控制電路，所述的反應裝置包括設置于所述的微波室內的石英罩、設置于所述的微波室內且設置于所述的石英罩下方的反應室底座及由所述的石英罩和所述的反應室底座圍成的空間構成的反應室，所述的微波控制電路通過主體設備電源線與所述的電路單元相連接，所述的反應室通過主進氣管與所述的氣路單元相連接，所述的反應室通過排氣管與所述的真空裝置相連接，所述的氣體供應裝置通過分進氣管與所述的氣路單元相連接，所述的真空裝置通過真空裝置電源線與所述的電路單元相連接。

2.根據權利要求1所述的一種等離子體清洗裝置，其特征在于所述的氣路單元包括電磁閥、氣體流量調節閥、流量計和真空表，所述的分進氣管與所述的電磁閥相連接，所述的電磁閥通過氣管與所述的氣體流量調節閥相連接，所述的氣體流量調節閥通過氣管與所述的流量計相連接，所述的流量計通過氣管與所述的主進氣管相連接，所述的主進氣管通過氣管與所述的真空表相連接。

3.根據權利要求2所述的一種等離子體清洗裝置，其特征在于所述的電路單元包括總電源、用于控制與所述的主體設備電連接的相應的電源插座及與所述的真空裝置電連接的相應的電源插座的通斷的設備電源控制部分、用于控制所述的電磁閥的通斷的進氣控制部分和用于外部控制操作的手動遙控控制部分，所述的總電源分別與所述的設備電源控制部分、所述的進氣控制部分及所述的手動遙控控制部分電連接。

4.根據權利要求3所述的一種等離子體清洗裝置，其特征在于所述的氣體供應裝置包括至少一個用于供應清洗反應氣體的氣瓶，所述的氣瓶通過所述的分進氣管與所述的電磁閥相連接。

5.根據權利要求4所述的一種等離子體清洗裝置，其特征在于所述的氣體供應裝置包括兩個所述的氣瓶，兩個所述的氣瓶內分別裝有不同的清洗反應氣體，每個所述的氣瓶分別通過一個所述的電磁閥、一個所述的氣體流量調節閥及一個所述的流量計與所述的主進氣管相連接構成兩路氣路。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的一種等離子體清洗裝置，其特征在于所述的微波室包括微波室腔體和與所述的微波室腔體活動配合的微波室腔門，所述的微波源設置于所述的微波室腔體的側壁或上方，所述的微波室腔門上設置有用于觀察清洗樣品過程的觀察窗口，所述的觀察窗口向內的一側面上安裝有微波屏蔽網。

7.根據權利要求6所述的一種等離子體清洗裝置，其特征在于所述的反應室底座緊貼設置于所述的微波室腔體的底面上，貫穿所述的反應室底座和所述的微波室腔體的底部設置有分別與所述的反應室相連通的進氣管頭和出氣管頭，所述的進氣管頭與所述的主進氣管相連接，所述的出氣管頭與所述的排氣管相連接，所述的反應室底座與所述的石英罩之間設置有密封橡膠圈。

8.根據權利要求7所述的一種等離子體清洗裝置，其特征在于所述的反應室底座中設置有水冷槽，貫穿所述的微波室腔體的底部和所述的反應室底座的底部設置有分別與所述的水冷槽相連通的進水管頭和排水管頭，所述的進水管頭連接有進水軟管，所述的排水管頭連接有排水軟管；所述的控制裝置還包括水路單元，所述的水路單元主要由水冷排、水箱和水泵組成，所述的進水軟管與所述的水冷排相連接，所述的水冷排通過水管與所述的水箱相連接，所述的水箱通過水管與所述的水泵相連接，所述的水泵與所述的排水軟管相連接；所述的電路單元還包括水冷控制部分，所述的水冷控制部分控制所述的水泵的運行。