[實用新型]研磨液供應裝置

無效

• 申請號: 201020180778.2
• 申請日: 2010-04-29
• 公開（公告）號: CN201728595U
• 公開（公告）日: 2011-02-02
• 發明（設計）人: 左少杰;詹明松;王懷鋒;余文軍;曹開瑋
• 申請（專利權）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司;中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號: B24B57/02
• 分類號: B24B57/02
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

技術領域

本實用新型涉及化學機械研磨設備，尤其涉及一種研磨液供應裝置。

背景技術

隨著半導體行業的發展，集成電路制造行業發展迅速。同樣，化學機械研磨(CMP)作為芯片加工中必不可少的一道工藝也面臨著越來越高的挑戰。在化學機械研磨工藝中，將半導體晶片放置于研磨頭上，并使晶片表面朝下與研磨墊接觸，在所述研磨墊和半導體晶片之間通入研磨液(slurry)，通過晶片表面和研磨墊之間的相對運動使得晶片表面平坦化。研磨液是化學機械研磨工藝中一項關鍵的消耗品，在芯片化學機械研磨過程中起著重要的作用。

為了滿足化學機械研磨工藝中不同制程的需要，越來越多的研磨液被開發并投入使用，而每種研磨液的物理化學性質各不相同。因此，如何運輸、儲藏以及供應這些研磨液也就格外重要。在供應研磨液方面，為了適應化學機械研磨制程的需要，同一個化學機械研磨機臺可能需要幾種不同的研磨液，因此出現了各式各樣的研磨液供應裝置。

傳統的研磨液供應裝置如圖所示，包括一個用于儲存研磨液的研磨液罐。研磨液罐壁上的研磨液容易干燥結晶形成大的顆粒物質，而這些顆粒物質從研磨液罐壁上脫落掉到研磨液里就會造成被研磨的晶片表面劃傷或者在其表面上附著顆粒物質，造成產品的良率下降。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種研磨液供應裝置，通過增設一個與研磨液罐密閉連通的保濕罐，防止研磨液在研磨液罐壁上干燥結晶。

為了達到上述的目的，本實用新型提供一種研磨液供應裝置，包括研磨液罐，還包括保濕液罐，所述保濕液罐內液面上的空間與所述研磨液罐內液面上的空間密閉連通。

在上述研磨液供應裝置中，所述保濕液罐通過管道與所述研磨液罐密閉連通。具體結構如下：所述保濕液罐上方的罐壁設有第一接口，所述保濕液罐上方罐壁設有第二接口，所述管道的兩端分別與第一接口和第二接口密閉連接。

在上述研磨液供應裝置中，所述研磨液罐具有兩個。所述兩個研磨液罐內液面上的空間分別通過各自的管道與所述保濕液罐液面上的空間密閉連通。或者，所述兩個研磨液罐內液面上的空間密閉連通，且其中一個研磨液罐內液面上的空間與所述保濕液罐液面上的空間密閉連通。

在上述研磨液供應裝置中，所述兩個研磨液罐通過第一換向閥擇一與研磨液供應源連接。

在上述研磨液供應裝置中，所述兩個研磨液罐通過第二換向閥擇一與研磨裝置連接。

在上述研磨液供應裝置中，所述研磨液罐包括研磨液進口和研磨液出口。所述研磨液進口和所述研磨液出口分別位于所述研磨液罐的頂面和底面。或者，所述研磨液進口和所述研磨液出口分別位于所述研磨液罐的頂面。

在上述研磨液供應裝置中，所述保濕液罐設有一保濕液進口和一保濕液出口。

本實用新型的有益效果是：

增設一個與研磨液罐密閉連通的保濕罐后，只要保證研磨液罐內的空間的水蒸氣壓力大于研磨液罐壁上的研磨液中的水的飽和蒸汽壓，就可以使得研磨液罐壁上的研磨液中的水不容易蒸發或者不蒸發，即使得研磨液罐壁上的研磨液保持濕潤或液態，因而，可以有效防止研磨液在研磨液罐壁上干燥結晶，從而減少研磨液中的大顆粒產生，有效避免了顆粒物質劃傷產品或附著在產品上，減少了大顆粒物質對產品的影響，提高了產品合格率。

另外，由于增設保濕罐后，可以有效防止研磨液罐壁上的研磨液結晶成顆粒，因而也可以減少沖洗研磨液罐的次數，進而節約了清洗所用的超純水，同時也減少了停機機時間，降低了維護成本。

附圖說明

本實用新型的研磨液供應裝置由以下的實施例及附圖給出。

圖1是現有的研磨液供應裝置的結構示意圖；

圖2是本實用新型研磨液供應裝置的結構示意圖；

圖3是本實用新型研磨液供應裝置一種變形的結構示意圖；

圖4是研磨液進口和研磨液出口分別位于所述研磨液罐的頂面的研磨液罐的結構示意圖；

圖中，1-研磨液罐，11-研磨液進口，12-研磨液出口，13-研磨液，14-第一接口，2-保濕液罐，21-保濕液進口，22-保濕液出口，23-保濕液，24-第二接口，3、7-管道，4-第一換向閥，5-第二換向閥，6-研磨裝置，8-研磨液供應源。

具體實施方式

以下將對本實用新型的研磨液供應裝置作進一步的詳細描述。

請參閱圖2，圖2是本實用新型研磨液供應裝置的結構示意圖。