[實用新型]用于化學氣相淀積反應室的緊固組件無效
| 申請號: | 201020180763.6 | 申請日: | 2010-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN201729877U | 公開(公告)日: | 2011-02-02 |
| 發明(設計)人: | 朱紅霞;張希山;陶永鈞;廖夤臨;汪少軍 | 申請(專利權)人: | 武漢新芯集成電路制造有限公司;中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/00 | 分類號: | C23C16/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 430205 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 化學 氣相淀積 反應 緊固 組件 | ||
1.一種用于化學氣相淀積反應室的緊固組件,包括若干用于連接反應室周壁和氣源箱底板的螺栓,所述螺栓和氣源箱底板之間設有一隔離板,其特征在于:所述隔離板上設置有圓周刻度,所述螺栓設有與所述圓周刻度相對應的指針。
2.如權利要求1所述的用于化學氣相淀積反應室的緊固組件,其特征在于:所述隔離板與氣源箱底板相接觸的面上分別設有相互配合的凸起和凹槽。
3.如權利要求1所述的用于化學氣相淀積反應室的緊固組件,其特征在于:所述螺栓為六個。
4.如權利要求1所述的用于化學氣相淀積反應室的緊固組件,其特征在于:所述圓周刻度是36等分刻度盤。
5.如權利要求1所述的用于化學氣相淀積反應室的緊固組件,其特征在于:所述螺栓與所述隔離板之間設有一墊圈。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





