[實用新型]沉積環和靜電吸盤有效
| 申請號： | 201020180720.8 | 申請日： | 2010-04-29 |
| 公開（公告）號： | CN201732778U | 公開（公告）日： | 2011-02-02 |
| 發明（設計）人： | 方文勇;劉兆虎;曾海;李江風 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;武漢新芯集成電路制造有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/687 | 分類號： | H01L21/687 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 20120*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 沉積 靜電 吸盤 | ||
1.一種靜電吸盤，包括：2個卡持部，其特征在于，所述2個卡持部的形狀互不相同、和/或大小互不相同，且其中一個卡持部位于所述靜電吸盤的對稱軸上時，另一個卡持部位于所述靜電吸盤的對稱軸之外。
2.如權利要求1所述的靜電吸盤，所述卡持部為凹槽或凸起。
3.一種與權利要求1所述的靜電吸盤配合使用的沉積環，包括：2個配合部，其特征在于，所述2個配合部的形狀互不相同、和/或大小互不相同，且其中一個配合部位于所述沉積環的對稱軸上時，另一個配合部位于所述沉積環的對稱軸之外。
4.如權利要求3所述的沉積環，所述配合部為凹槽或凸起。
5.一種靜電吸盤，包括：N個卡持部，其中N≥3，其特征在于，所述N個卡持部的形狀互不相同、和/或大小互不相同、和/或構成不等邊的N邊形。
6.如權利要求5所述的靜電吸盤，其特征在于，所述卡持部為凹槽或凸起。
7.如權利要求5或6所述的靜電吸盤，其特征在于，所述卡持部的數量為3個。
8.一種與權利要求5所述的靜電吸盤配合使用的沉積環，包括：N個配合部，其中N≥3，其特征在于，所述N個配合部的形狀互不相同、和/或大小互不相同、和/或構成不等邊的N邊形。
9.如權利要求8所述的沉積環，其特征在于，所述配合部為凸起或凹槽。
10.如權利要求8或9所述的沉積環，其特征在于，所述配合部的數量為3個。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
