[實(shí)用新型]一種大型活性焦對流吸附煙氣凈化系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020109088.8
• 申請日: 2010-02-05
• 公開（公告）號: CN201586464U
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張開元
• 申請（專利權(quán)）人: 北京國電清新環(huán)保技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: B01D53/02
• 分類號: B01D53/02
• 代理公司: 北京輕創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11212
• 代理人: 楊立

1.一種大型活性焦對流吸附煙氣凈化系統(tǒng)，其特征在于，所述凈化系統(tǒng)包括吸附設(shè)備、第一輸送設(shè)備、解析設(shè)備和第二輸送設(shè)備；所述吸附設(shè)備內(nèi)裝有用于吸附煙氣的活性焦，用于吸附煙氣并將吸附飽和的活性焦通過第一輸送設(shè)備輸送至解析設(shè)備中，并將凈化后的煙氣排出；所述解析設(shè)備用于將吸附飽和的活性焦進(jìn)行再生，并將再生后的活性焦通過第二輸送設(shè)備輸送至吸附設(shè)備進(jìn)行再利用。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大型活性焦對流吸附煙氣凈化系統(tǒng)，其特征在于，所述吸附設(shè)備包括凈化前煙氣進(jìn)氣口、凈化后煙氣出氣口、氨氣進(jìn)氣口、第一進(jìn)料緩沖倉、布料器、第一煙氣均布器、第二煙氣均布器、收料器、脫氮吸附層、脫硫吸附層和卸料緩沖倉；所述凈化前煙氣進(jìn)氣口、凈化后煙氣出氣口和氨氣進(jìn)氣口均位于吸附設(shè)備的同一側(cè)面上，所述凈化煙氣進(jìn)氣口位于第二煙氣均布器的下方，所述凈化后煙氣出氣口位于脫氮吸附層的上方，所述氨氣進(jìn)氣口位于脫氮吸附層和脫硫吸附層之間；所述第一進(jìn)料緩沖倉位于吸附設(shè)備的左上方，其包括第一進(jìn)料口和第一出料口；所述布料器設(shè)置于脫氮吸附層的上方并可在脫氮吸附層的上方做來回運(yùn)動；所述第一煙氣均布器設(shè)置于脫氮吸附層的下方并設(shè)置于脫硫吸附層的上方；所述脫硫吸附層設(shè)置于第一煙氣均布器的下方并設(shè)置于第二煙氣均布器的上方；所述收料器設(shè)置于第二煙氣均布器的下方并可在第二煙氣均布器的下方做來回運(yùn)動；所述卸料緩沖倉位于吸附設(shè)備的右下方，其包括第二進(jìn)料口和第二出料口。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大型活性焦對流吸附煙氣凈化系統(tǒng)，其特征在于，所述第一煙氣均布器包括多個第一煙氣均布器單元，所述第一煙氣均布器單元為漏斗形狀，其中漏斗的進(jìn)料口位于脫氮吸附層下方，脫硫吸附層位于漏斗的出料口的下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大型活性焦對流吸附煙氣凈化系統(tǒng)，其特征在于，所述第二煙氣均布器包括多個第二煙氣均布器單元，所述第二煙氣均布器單元由第一側(cè)板、第二側(cè)板和第三側(cè)板組成，所述第一側(cè)板和第二側(cè)板相對并傾斜設(shè)置，所述第一側(cè)板和第二側(cè)板形成上開口和下開口，且上開口的大小大于下開口的大小，所述第三側(cè)板傾斜設(shè)置并與第一側(cè)板相連接形成盛放活性焦的空間，所述第三側(cè)板和第二側(cè)板之間間隔設(shè)置形成煙氣與活性焦對流口。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大型活性焦對流吸附煙氣凈化系統(tǒng)，其特征在于，所述解析設(shè)備包括由上至下依次設(shè)有的進(jìn)料層、加熱解析層、冷卻層和出料層；所述進(jìn)料層是由第二進(jìn)料緩沖倉與進(jìn)料鎖氣倉組成，進(jìn)料鎖氣倉設(shè)置在第二進(jìn)料緩沖倉上方；在進(jìn)料鎖氣倉上方還設(shè)有物料儲存?zhèn)}；在所述第二進(jìn)料鎖氣倉上設(shè)有空氣排放口和惰性氣體入口；所述加熱解析層包括至少一層第一漏斗裝置和氣體循環(huán)加熱裝置，氣體循環(huán)加熱裝置是連接于第一漏斗裝置上的出氣口和進(jìn)氣口之間的加熱管，所述出氣口連接有循環(huán)風(fēng)機(jī)，循環(huán)風(fēng)機(jī)與排氣閥相連通，循環(huán)風(fēng)機(jī)還與換熱器相連通，換熱器與進(jìn)氣口相連接，在所述的進(jìn)氣口和換熱器之間還設(shè)有流量分配閥；所述冷卻層包括至少一層第二漏斗裝置，在第二漏斗裝置上方設(shè)有物料冷卻區(qū)；所述出料層由下料緩沖倉和下料鎖氣倉組成，下料緩沖倉設(shè)置在所述冷卻層的第一漏斗裝置的下方并與冷卻層連通，下料鎖氣倉設(shè)置在所述下料緩沖倉的下方。