[實用新型]化學機械拋光設備的硅片固定裝置

無效

• 申請號: 201020036339.4
• 申請日: 2010-01-18
• 公開（公告）號: CN201573111U
• 公開（公告）日: 2010-09-08
• 發明（設計）人: 斯健全;瞿治軍;金新
• 申請（專利權）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;H01L21/304
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 張驥

技術領域

本實用新型涉及一種化學機械拋光設備，具體涉及一種化學機械拋光設備的硅片固定裝置。

背景技術

化學機械拋光(Chemical?mechanical?polisher，CMP)工藝是用藥液研磨硅片的正面。研磨完成之后需要對硅片進行清洗，其中刷子的清洗是比較重要部分。在刷子的清洗過程中，硅片的固定和自身旋轉是必不可少的步驟。

現有的硅片固定方式如圖1所示，依靠硅片自身的重力將硅片10置于其底部的三個滾軸1上，然后通過旋轉馬達帶動滾軸1滾動來帶動硅片10旋轉。

這種硅片固定方式的缺點是，單純依靠硅片10自身的重力，底部滾軸1摩擦會不充分，引起硅片10的旋轉時斷時續，造成刷子的清洗效果就不理想，甚至導致顆粒的殘留，進而影響到芯片的成品率。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種化學機械拋光設備的硅片固定裝置，它可以改善清洗效果。

為解決上述技術問題，本實用新型化學機械拋光設備的硅片固定裝置的技術解決方案為：

包括多個底部滾軸，設置于處于垂直狀態的硅片的底部，所述底部滾軸設有滾軸旋轉機構；所述硅片的頂部還設置有多個頂部滾軸，頂部滾軸的初始位置偏離硅片的正上方；所述頂部滾軸設有滾軸平移機構。

所述頂部滾軸設有滾軸旋轉機構。

所述滾軸平移機構包括滑塊、絲桿、平動馬達，所述頂部滾軸通過滑塊連接絲桿，絲桿的尾端連接平動馬達；滑塊套設于絲桿上，滑塊與絲桿之間為螺紋連接；平動馬達能夠使頂部滾軸在水平方向上平動。所述滑塊的頂部通過彈簧連接氣缸；氣缸能夠使頂部滾軸在垂直方向上平動。

所述多個頂部滾軸通過同一個平動馬達驅動，或者每個頂部滾軸分別通過平動馬達驅動。

所述頂部滾軸的滾軸旋轉機構包括皮帶輪、皮帶、驅動帶、旋轉馬達；多個頂部滾軸分別連接皮帶輪，各皮帶輪通過皮帶連接；其中一個皮帶輪通過驅動帶連接一旋轉馬達；旋轉馬達能夠通過驅動帶和皮帶帶動多個頂部滾軸同步旋轉。

所述頂部滾軸的旋轉馬達與底部滾軸的滾軸旋轉機構的旋轉馬達的性能參數相同，馬達的旋轉方向相同。

所述皮帶的直徑為8cm，驅動帶的直徑為12cm，橫截面直徑為0.5cm。

本實用新型可以達到的技術效果是：

本實用新型在硅片的上方增設有頂部滾軸，該頂部滾軸能夠在水平方向和垂直方向上平動，通過頂部滾軸的平動，能夠將硅片夾緊于頂部滾軸和底部滾軸之間，實現硅片的固定。

本實用新型的頂部滾軸設有滾軸旋轉機構，通過頂部滾軸和底部滾軸的同步旋轉，帶動硅片旋轉，使硅片的旋轉順暢、平穩。

本實用新型設置于化學機械拋光設備的后洗凈部分，能夠固定硅片并使硅片旋轉，減少清洗過程中故障的發生率，有效提高顆粒的清除能力，進而提高產品的成品率。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明：

圖1是現有技術硅片固定的示意圖；

圖2是本實用新型化學機械拋光設備的硅片固定裝置的結構示意圖；

圖3是圖2的側視圖；

圖4是本實用新型帶有滾軸旋轉機構的示意圖。

圖中附圖標記說明：

1為底部滾軸，????????????????????2為頂部滾軸，

3為氣缸，????????????????????????4為滑塊，

5為絲桿，????????????????????????6為平動馬達，

7為支架，????????????????????????8為皮帶輪，

81為皮帶，???????????????????????82為驅動帶，

9為旋轉馬達，????????????????????10為硅片。

具體實施方式

如圖2、圖3所示，本實用新型化學機械拋光設備的硅片固定裝置，包括五個滾軸，三個底部滾軸1設置于處于垂直狀態的硅片10的底部，兩個頂部滾軸2設置于硅片10的頂部，頂部滾軸2的初始位置偏離硅片10的正上方。底部滾軸1與現有技術的滾軸相同，頂部滾軸2的結構與底部滾軸1相同。

兩個頂部滾軸2通過一滑塊4連接絲桿5，絲桿5的尾端連接平動馬達6；滑塊4套設于絲桿5上，滑塊4與絲桿5之間為螺紋連接；平動馬達6能夠使頂部滾軸2在水平方向上平動；

滑塊4的頂部通過彈簧連接氣缸3；氣缸3能夠使頂部滾軸2在垂直方向上平動，實現五個滾軸所組成的夾子的開合。

彈簧的作用是使五個滾軸所組成的夾子在閉合時有一定的許容空間，防止閉合過程中被卡住。