[實用新型]光學結構改良無效
| 申請號： | 201020004002.5 | 申請日： | 2010-01-19 |
| 公開（公告）號： | CN201652189U | 公開（公告）日： | 2010-11-24 |
| 發明（設計）人： | 李碧珠;戴郁芬 | 申請（專利權）人： | 李碧珠 |
| 主分類號： | F21V8/00 | 分類號： | F21V8/00;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京申翔知識產權代理有限公司 11214 | 代理人： | 周春發;艾晶 |
| 地址： | 中國臺灣臺北縣新莊*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 結構 改良 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學結構改良，該光學結構至少一側邊設有復數微結構；其特征在于：
該側邊沿微結構至少一表面延伸有一凸出部。
2.如權利要求1所述光學結構改良，其特征在于，該凸出部由側邊沿微結構上表面延伸而成。
3.如權利要求2所述光學結構改良，其特征在于，該側邊至少包含有入光側、一與入光側相鄰的底側以及與底側相對的出光側，各微結構設于入光側上，而凸出部則設于入光側與出光側相鄰處。
4.如權利要求1所述光學結構改良，其特征在于，該凸出部由側邊沿微結構下表面延伸而成。
5.如權利要求4所述光學結構改良，其特征在于，該側邊至少包含有入光側、一與入光側相鄰的底側以及與底側相對的出光側，各微結構設于入光側上，而凸出部則設于入光側與底側相鄰處。
6.如權利要求1所述光學結構改良，其特征在于，該凸出部由側邊沿微結構上表面及下表面延伸而成。
7.如權利要求4所述光學結構改良，其特征在于，該側邊至少包含有入光側、一與入光側相鄰的底側以及與底側相對的出光側，各微結構設于入光側上，而凸出部則設于入光側與出光側相鄰處以及入光側與底側相鄰處。
8.如權利要求1、2、4或6所述光學結構改良，其特征在于，該凸出部的長度大于微結構的高度。
9.如權利要求1、2、4或6所述光學結構改良，其特征在于，該凸出部的長度等于微結構的高度。
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