[發(fā)明專利]用于氣相淀積系統(tǒng)的具有可移除的輥?zhàn)拥膫魉推鹘M件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010624656.2 | 申請(qǐng)日: | 2010-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102115875A | 公開(公告)日: | 2011-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | E·J·利特爾;C·拉思維格 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 初星太陽能公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/56 | 分類號(hào): | C23C14/56;C23C16/54;B65G13/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 嚴(yán)志軍;譚祐祥 |
| 地址: | 美國科*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 氣相淀積 系統(tǒng) 具有 輥?zhàn)?/a> 傳送 組件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明大體涉及薄膜氣相淀積系統(tǒng)領(lǐng)域,其中,諸如半導(dǎo)體層的薄膜層淀積在傳送通過該系統(tǒng)的襯底上。更具體而言,本發(fā)明涉及用來使襯底運(yùn)動(dòng)通過氣相淀積系統(tǒng)的傳送器系統(tǒng)。
背景技術(shù)
薄膜光電(PV)模塊(也稱為“太陽能電池板”)的生產(chǎn)典型地包括將襯底(例如玻璃板)傳送到氣相淀積室中,以及傳送出氣相淀積室,其中,半導(dǎo)體材料(例如碲化鎘(CdTe))的薄膜層(行業(yè)中一般認(rèn)為小于10μm)淀積在襯底的表面上。淀積過程可為任何已知的過程,例如近距離升華(CSS)系統(tǒng)、化學(xué)氣相淀積(CVD)系統(tǒng),或者物理氣相淀積(PVD)系統(tǒng)。
使用CdTe?PV模塊的太陽能系統(tǒng)在每瓦所產(chǎn)生功率的成本方面一般被認(rèn)為是商業(yè)上可購得的系統(tǒng)中的最成本高效的系統(tǒng)。但是,盡管CdTe有優(yōu)點(diǎn),可持續(xù)的商業(yè)開發(fā)以及接受太陽能作為輔助或主要的工業(yè)或住宅功率源取決于大規(guī)模地且以成本有效的方式生產(chǎn)高效的PV模塊的能力。就此而言,非常合乎需要的是減少在生產(chǎn)PV模塊時(shí)使用的氣相淀積系統(tǒng)的停機(jī)時(shí)間。
典型地,使用各種類型的傳送器來使PV模塊襯底運(yùn)動(dòng)通過氣相淀積系統(tǒng)。傳送器的構(gòu)件可暴露于源材料蒸氣,源材料蒸氣可在傳送器構(gòu)件上冷凝成有害的源材料積聚物。在這種情形下,需要移除和清潔傳送器構(gòu)件,或者用干凈的構(gòu)件代替移除的傳送器構(gòu)件。可能還需要移除傳送器構(gòu)件來進(jìn)行定期維護(hù)、更換,或者進(jìn)行需要使系統(tǒng)停機(jī)的其它程序。減少與傳送器維護(hù)、更換或其它原因相關(guān)聯(lián)的系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間是正在關(guān)注的事情。
因此,存在對(duì)這樣一種改進(jìn)的傳送器組件的需求:該傳送器組件特別適于傳送被傳送通過氣相淀積的襯底,其減少了與構(gòu)件更換和維護(hù)相關(guān)聯(lián)的停機(jī)時(shí)間。本發(fā)明涉及達(dá)到此目的的傳送器組件。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的各方面和優(yōu)點(diǎn)將在以下描述中部分地闡述,或者根據(jù)描述,它們可為顯而易見的,或可通過實(shí)踐本發(fā)明來學(xué)習(xí)它們。
根據(jù)本發(fā)明的各方面的、用于將襯底傳送通過氣相淀積系統(tǒng)的傳送器組件的一個(gè)實(shí)施例包括設(shè)置在該傳送器組件的驅(qū)動(dòng)側(cè)處的第一托架導(dǎo)軌和設(shè)置在該傳送器組件的相對(duì)側(cè)處的第二托架導(dǎo)軌。相對(duì)側(cè)可為不被驅(qū)動(dòng)的空轉(zhuǎn)側(cè),或者也可為驅(qū)動(dòng)側(cè)。第一托架導(dǎo)軌和第二托架導(dǎo)軌中的各個(gè)包括沿著導(dǎo)軌的長(zhǎng)度沿縱向隔開的多個(gè)輥?zhàn)游恢谩T谝粋€(gè)特定的實(shí)施例中,這些輥?zhàn)游恢每蔀橄薅ㄔ趯?dǎo)軌中的端部開口的凹部。第一托架導(dǎo)軌和第二托架導(dǎo)軌還在各個(gè)輥?zhàn)游恢锰幇ㄒ粚?duì)輪。這些輪是隔開的,以便在各個(gè)相應(yīng)的輥?zhàn)游恢锰幭薅ǔ凶Q刂辽俚谝煌屑軐?dǎo)軌的多個(gè)輥?zhàn)游恢檬球?qū)動(dòng)位置,其中,輪中的一個(gè)為驅(qū)動(dòng)輪。另一個(gè)輪可為空轉(zhuǎn)輪,或者也可為驅(qū)動(dòng)輪。多個(gè)輥?zhàn)釉诘谝煌屑軐?dǎo)軌和第二托架導(dǎo)軌之間延伸。輥?zhàn)泳哂新淙胗奢喯薅ǖ摹⒃谳佔(zhàn)游恢锰幍某凶械亩瞬浚喰D(zhuǎn)地支承和驅(qū)動(dòng)輥?zhàn)印?赏ㄟ^在輥?zhàn)游恢锰帍某凶咸岢鲚佔(zhàn)觼韽耐屑軐?dǎo)軌上移除輥?zhàn)印?/p>
對(duì)上面論述的傳送器組件的實(shí)施例的變型和修改在本發(fā)明的范圍和精神內(nèi),并且本文可對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步描述。
本發(fā)明還包括氣相淀積模塊的各種實(shí)施例,它們可用來將襯底傳送通過氣相淀積系統(tǒng),其中,源材料升華(即轉(zhuǎn)變成蒸氣)且淀積在襯底的表面上。這種模塊的一個(gè)實(shí)施例包括殼體和傳送器組件,傳送器組件可操作地構(gòu)造在殼體內(nèi),以便將襯底傳送通過殼體。傳送器組件可如以上論述的那樣進(jìn)行構(gòu)造。
對(duì)上面論述的氣相淀積模塊的實(shí)施例的變型和修改在本發(fā)明的范圍和精神內(nèi),并且本文可對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步描述。
本發(fā)明還包括氣相淀積系統(tǒng),其構(gòu)造成以便使源材料蒸氣淀積在傳送通過該系統(tǒng)的襯底的表面上。此系統(tǒng)的實(shí)施例可包括多個(gè)單獨(dú)的、沿縱向?qū)R的模塊,其設(shè)計(jì)成以便在整個(gè)淀積過程中執(zhí)行特定的功能。各個(gè)模塊限定用于被傳送通過該系統(tǒng)的襯底的傳送路徑,并且包括殼體和傳送器組件,傳送器組件可操作地構(gòu)造在殼體內(nèi),以便將襯底傳送通過殼體。傳送器組件可如以上在一個(gè)特定的實(shí)施例中論述的那樣進(jìn)行構(gòu)造。
對(duì)上面論述的氣相淀積系統(tǒng)的實(shí)施例的變型和修改在本發(fā)明的范圍和精神內(nèi),并且本文可對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步描述。
參照以下描述和所附權(quán)利要求書,本發(fā)明的這些和其它特征、方面和優(yōu)點(diǎn)將變得更好理解。
附圖說明
在參照了附圖的說明書中闡述了本發(fā)明的完整且能夠?qū)崿F(xiàn)的公開,包括其最佳模式,在附圖中:
圖1是可結(jié)合具有根據(jù)本發(fā)明的各方面的傳送器組件的模塊的氣相淀積系統(tǒng)的視圖;
圖2是結(jié)合了根據(jù)本發(fā)明的各方面的傳送器組件的實(shí)施例的模塊的俯視圖;
圖3是圖2中描繪的傳送器模塊中的一個(gè)的側(cè)面剖視圖;
圖4是傳送器組件的一個(gè)實(shí)施例的透視圖;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于初星太陽能公司,未經(jīng)初星太陽能公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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