[發明專利]基板處理裝置及真空進片裝置有效
| 申請號: | 201010623343.5 | 申請日: | 2010-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN102163570A | 公開(公告)日: | 2011-08-24 |
| 發明(設計)人: | 岡部星兒;鍋山裕樹 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677;H01L21/683;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李偉;舒艷君 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 真空 | ||
技術領域
本發明涉及處理作為被處理體的基板的基板處理裝置及在其中設置的真空進片(Loadlock)裝置。
背景技術
例如,在液晶顯示器(LCD)所代表的平板顯示器(EPD)的制造工序中,使用具備在減壓環境下對玻璃基板等基板實施蝕刻、CVD等規定處理的多個腔室的、所謂的多腔室型的基板處理裝置(參照專利文獻1)。在這種基板處理裝置中包括:具備搬送基板的基板搬送機構的搬送室,設置于搬送室周圍的多個腔室。而且,在該基板處理裝置中設置有真空進片裝置,其在置于大氣中的盒和保持為真空的搬送室之間搬送基板之時使用。
基板處理裝置首先打開設置于真空進片裝置的盒側的門(大氣側門),將收存于盒的基板搬入真空進片裝置的基板收存室內,并載置于基板收存室內所具備的緩沖用載置臺。然后,關閉大氣側門后對真空進片裝置的基板收存室內進行減壓并成為真空狀態之后,在打開設置于真空進片裝置的搬送室側的門(真空側門)連通真空進片裝置的基板收存室內和搬送室的情況下,通過搬送室的搬送機構將基板從真空進片裝置的基板收存室搬出,并搬送至多個腔室的任一個。
利用各腔室對基板實施了規定處理之后,通過搬送室的搬送機構從各腔室取出處理完的基板,并搬入真空進片裝置的基板收存室內。然后,關閉真空進片裝置的真空側門后對基板收存室內進行升壓并達到大氣壓后,打開大氣壓側門,從真空進片裝置的基板收存室搬出基板并返回盒。
通過這樣的基板處理裝置實施處理的玻璃基板近年變得大型化,甚至出現了一邊超過3m的巨大的玻璃基板。由此構成基板處理裝置的腔室、搬送室以及真空進片裝置也變得大型化。
但是,對于真空進片裝置的基板收存室而言,由于在裝置工作過程中重復大氣壓環境和減壓環境,所以優選構成為使其內部容積盡可能地變小。由此,能夠在短時間內調整為規定的壓力,結果能夠提高處理量。因此,以往為了抑制真空進片裝置的基板收存室的內部容積,例如采用了在室內設置容積減少部件的方案(例如參照專利文獻1)。
專利文獻1:日本特開平03-145724號公報
專利文獻2:日本特開2007-73540號公報
近年來,基板的尺寸也日益大型化,載置其的緩沖用載置臺也隨著基板的尺寸而大型化。若緩沖用載置臺的尺寸變大則其重量也增大,僅緩沖用載置臺的總重量就達到數噸以上的相當重的重量,因此支承其的構造也需要變得強固。
而且,例如如專利文獻2所記載的真空進片裝置那樣,為了容易維護,在下方開閉自如地構成基板收納室的底壁部時,也必須增大驅動其的氣缸等的驅動推力。
發明內容
本發明正是鑒于上述問題而做出的,目的在于提供一種既能使真空進片裝置的內部容積變小,又能將其重量大幅度地輕型化的真空進片裝置等。
為了解決上述課題,根據本發明的某觀點,提供一種真空進片裝置,其連接于減壓環境和大氣壓環境之間,調整內部壓力在上述減壓環境和上述大氣壓環境之間搬送基板,其具備:基板收存室,其能夠將內部壓力切換為上述減壓環境和上述大氣壓環境;緩沖用載置臺,其設置于上述基板收存室內,臨時載置收存的基板;上述緩沖用載置臺由一個或多個緩沖部件構成,上述緩沖部件構成為,其內部設置為中空并保持氣密。
為了解決上述課題,根據本發明的別的觀點,提供一種基板處理裝置,其包括:在減壓環境下對基板實施規定處理的一個或多個腔室;與上述腔室連接,在減壓環境下與上述腔室進行基板的交接的搬送室;保持為大氣壓環境,用于搬入及搬出上述基板的搬入搬出部;以及上述真空進片裝置。
根據本發明,通過將各緩沖部件的內部設定為中空,能夠大幅地進行輕量化。并且,通過保持各緩沖部件的內部的氣密,在各緩沖部件的內部由于與基板收存室的內部劃分開,因此能夠不增加基板收存室的內部容積而輕型化。
而且,上述緩沖部件的內部既可設定為大氣壓環境也可設定為減壓環境。而且,也可在緩沖部件中設置對其內部進行氣密密封的密封插塞。據此,例如在貫通孔連接檢查裝置,能夠確認在緩沖部件的內部和外部之間沒有流體的泄漏。在該泄漏檢查后,若通過密封插塞密封貫通孔,則能夠確實地密封緩沖部件的內部。因此,各緩沖部件的內部也可保持充滿大氣。此時,能夠在大氣壓環境下安裝于基板收存室內。
上述緩沖部件可構成為具備中空的管部件;對上述管部件的兩個開放端進行氣密閉塞的板。此時,上述緩沖用載置臺可由隔開規定的間隔配置的上述多個緩沖部件構成,也可以構成包括以鄰接設置多個緩沖部件為一組,隔開規定的間隔配置多組的結構。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





