[發明專利]基板處理裝置及真空進片裝置

有效

• 申請號: 201010623343.5
• 申請日: 2010-12-27
• 公開（公告）號: CN102163570A
• 公開（公告）日: 2011-08-24
• 發明（設計）人: 岡部星兒;鍋山裕樹
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/683;H01L21/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李偉;舒艷君

1.一種真空進片裝置，其連接于減壓環境和大氣壓環境之間，調整內部壓力而在所述減壓環境和所述大氣壓環境之間搬送基板，所述真空進片裝置的特征在于，具備：

基板收存室，其能夠將內部壓力切換為所述減壓環境和所述大氣壓環境；

緩沖用載置臺，其設置于所述基板收存室內，臨時載置收存的基板，

所述緩沖用載置臺由一個或多個緩沖部件構成，所述緩沖部件構成為：其內部設置為中空并保持氣密。

2.根據權利要求1所述的真空進片裝置，其特征在于，

所述緩沖部件的內部是大氣壓環境。

3.根據權利要求1所述的真空進片裝置，其特征在于，

所述緩沖部件的內部是減壓環境。

4.根據權利要求3所述的真空進片裝置，其特征在于，

所述緩沖部件具備對其內部進行氣密密封的密封插塞。

5.根據權利要求2或3所述的真空進片裝置，其特征在于，

所述緩沖部件具備防止氣體從其外部向內部流動的止回閥。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的真空進片裝置，其特征在于，

所述緩沖部件包括：

中空的管部件；

對所述管部件的兩個開放端進行氣密閉塞的板。

7.根據權利要求6所述的真空進片裝置，其特征在于，

所述緩沖用載置臺由隔開規定的間隔配置的所述多個緩沖部件構成。

8.根據權利要求6所述的真空進片裝置，其特征在于，

所述緩沖用載置臺包括以鄰接設置的所述多個緩沖部件為一組而隔開規定的間隔配置多組的結構。

9.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

在減壓環境下對基板實施規定處理的一個或多個腔室；

與所述腔室連接，在減壓環境下與所述腔室進行基板的交接的搬送室；

保持為大氣壓環境，用于搬入及搬出所述基板的搬入搬出部；以及

所述權利要求1至8中任一項所述的真空進片裝置。