[發明專利]一種去除鍍液表面液渣的裝置和方法

有效

• 申請號: 201010622806.6
• 申請日: 2010-12-29
• 公開（公告）號: CN102031472A
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發明（設計）人: 張啟富;郝曉東
• 申請（專利權）人: 中國鋼研科技集團有限公司;新冶高科技集團有限公司
• 主分類號: C23C2/00
• 分類號: C23C2/00;B22D43/00
• 代理公司: 北京中安信知識產權代理事務所 11248
• 代理人: 張小娟

技術領域

本發明屬于用熔融態覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝其所用的設備領域，具體涉及一種去除鍍液表面液渣的裝置和方法。

背景技術

在生產和實驗過程中，坩堝爐中的鍍液是一個巨大的反應器，存在著物質的輸入和輸出、熱量的傳入和傳出。純鋁、鋁硅、鋁鋅硅、鋅鋁、鋅鋁鎂、純鋅等鍍液均會與氣氛中的氧氣發生反應生成氧化物，并在鍍液表面團聚成液渣。例如，對于鍍鋅生產線和實驗室而言，即使是在一定保護氣氛的條件下，鋼板表面的鐵元素仍將溶入純鋅鍍液之中，一部分鐵和鍍鍋內的合金元素發生反應，形成不同合金渣。同時，也會有少量氧化物摻雜到合金渣之中，形成不同成分的液渣。鍍液的液渣是不可避免的，只能采用一定的工藝方式加以減少或采用物理方法去除。同時，由于液渣存在于鍍液的表面，并呈現漂浮狀態，所以產品在進出鍍液的過程中，容易沾上一定量的液渣，造成產品表面存在點狀、線狀、花紋狀等缺陷，降低了產品的表面質量，也容易造成局部漏鍍。

目前，我國熱鍍生產線和實驗室缺乏去除鍍液液渣的裝置和方法，一般是采用人工撈渣的方式，在一定的生產或者試驗周期下，通過人工手持撈渣器的方式，將鍍液表面的液渣撈起，存在去渣效率低、成本高、人員操作安全性差等缺點，也無法做到在一定氣氛中進行去渣工作。同時，國外鍍液也是采用人工撈渣的方式，不僅效率低下，安全性和除渣率也無法保證。

發明內容

本發明的目的是提供一種去除鍍液表面液渣的裝置和方法，用于去除中、小型坩堝爐的鍍液表面的液渣。在不影響生產線生產和實驗室實驗的情況下，可以精確地去除純鋁、鋁硅、鋁鋅硅、鋅鋁、鋅鋁鎂、純鋅等鍍液表面的鍍渣。

為了達到上述目的，本發明提供了如下技術方案：

一種去除鍍液表面液渣的裝置，包括多個對稱分布于坩堝爐3外的電機，每個電機分別連接一驅動器，驅動器穿過氣體密封裝置7進入坩堝爐3，這些驅動器連接一個固定的擋渣器11和多個可平移的推渣器，坩堝爐3爐體上面有密封圈15，電控系統9控制電機的轉速和坩堝爐電源8的功率。

多個可平移的推渣器包括第一側面推渣器12、第二側面推渣器13、對面推渣器14。所述擋渣器11由為一個長條狀擋板和兩個側板組成，推渣器為一個長條狀擋板。所述密封裝置7包括下法蘭7-1、硅膠圈7-2、螺釘7-3和上法蘭7-4。所述擋渣器11、第一側面推渣器12、第二側面推渣器13、對面推渣器14由高強度石墨材料制成。所述裝置具備保險功能，電控系統9和柔性撞塊10控制設備避免碰撞損壞。

所述推渣器的運行速度為1mm/s～200mm/s，運行距離為1mm～500mm，精度為1mm。所述擋渣器11的運行速度為1mm/s～200mm/s，，移動距離為1mm-250mm，精度為1mm；擋渣器(11)的長條狀擋板和側板之間有柔性撞塊10。

一種去除鍍液表面液渣的方法，包括如下步驟：

a.電控系統9按照預先設定的程序控制電機1-2、1-3分別驅動第一側面推渣器12、第二側面推渣器13由坩堝爐3邊緣向中心推進；

b.第一側面推渣器12、第二側面推渣器13返回初始位置；

c.電機1-4驅動對面推渣器14由坩堝爐3邊緣向擋渣器11推進；

d.擋渣器11位置預先調整后，在去除液渣過程中，固定不動；

e.對面推渣器14接觸到擋渣器11的柔性撞塊10后，返回初始位置；

f.收集到擋渣器11內的表面液渣用機械或手工方式撈出。

所述方法去除鍍液4表面的鍍渣5，其去除率在A、B、G、H、I和J區為70％～85％，在C、D、E和F區為85％～95％，在K和L區為50％～60％。

所述擋渣器11、第一側面推渣器12、第二側面推渣器13、對面推渣器14采用高強度石墨材料。所述第一側面推渣器12、第二側面推渣器13、對面推渣器14的運行速度為1mm/s～200mm/s，運行距離為1mm～500mm，精度為1mm。

坩堝6中盛裝有鍍液4，鍍液4的溫度為300℃～800℃，推渣器12、13、14和擋渣器11工作溫度為300℃～800℃。

本發明的有效效果在于：通過電控系統、電機、擋渣器和推渣器相結合的方式，在不影響生產線生產和實驗室實驗的情況下，可以精確地去除純鋁、鋁硅、鋁鋅硅、鋅鋁、鋅鋁鎂、純鋅等鍍液表面的鍍渣，最大限度降低鍍液表面的鍍渣量，提高鍍層的表面質量，減少漏鍍點，具有較強的產品適用性。

附圖說明

圖1是本發明裝置的主視圖及其A-A部分的局部放大圖；

圖2為圖1的俯視圖。

附圖標記