[發明專利]一種提高離子阱碰撞誘導解離性能的方法及裝置有效
| 申請號: | 201010622405.0 | 申請日: | 2010-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN102103974A | 公開(公告)日: | 2011-06-22 |
| 發明(設計)人: | 劉立鵬;吳文明;朱文明;鄭毅;邱明;甘劍勤;吳先偉 | 申請(專利權)人: | 聚光科技(杭州)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01J49/42 | 分類號: | H01J49/42;H01J49/10 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310052 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 離子 碰撞 誘導 解離 性能 方法 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種提高離子阱性能的方法及裝置,尤其是一種提高離子阱碰撞誘導解離性能的方法及裝置。
背景技術
多級質譜分析是離子阱質譜儀的一項重要功能,在涉及物質結構分析的基因組學、蛋白組學以及制藥等領域中具有舉足輕重的地位。同時,多級質譜分析功能是離子阱質譜儀相對于其他質譜儀的優勢之一。
多級質譜分析過程如下:首先通過對目標離子(或母離子)進行隔離,然后通過碰撞誘導解離(Collision?Induced?Dissociation,CID)使母離子裂解,裂解后得到的碎片離子被稱為子離子。子離子還可進行相同的隔離和CID過程。通過對離子CID后得到的碎片離子就可以分析出離子的結構,獲得更大量的信息。
目前,離子阱理論已非常成熟,這里只簡要介紹與CID有關的理論。對于一個徑向半徑為r0、軸向半徑為z0的三維離子阱,其穩定圖參數az和qz定義如下:
其中束縛參數包括離子阱電極上施加的直流電壓U,射頻電壓的幅度V及射頻電壓的角頻率Ω。
離子在離子阱中的共振頻率ω(secular?frequency記作ω)與az和qz直接相關,一般引入參數β來描述離子共振頻率與射頻電壓頻率Ω的關系,如下式所示:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于聚光科技(杭州)股份有限公司,未經聚光科技(杭州)股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010622405.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





