[發明專利]氫氣產生裝置

有效

• 申請號: 201010622011.5
• 申請日: 2010-12-30
• 公開（公告）號: CN102556962A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 林猷翔;周柏圭;鄭再興;陸軒翌
• 申請（專利權）人: 揚光綠能股份有限公司
• 主分類號: C01B3/06
• 分類號: C01B3/06
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 蔡勝利

【技術領域】

本發明是有關于一種氣體產生裝置，且特別是有關于一種氫氣產生裝置。

【背景技術】

氫氣于醫療及生物學上的應用相當廣范，其可應用于抗老化且為天然的抗氧化物。氫氣可藉由固態硼氫化鈉(NaBH₄)儲氫技術而得，例如將水加入固態硼氫化鈉以反應產生氫氣。

舉例來說，可將固態硼氫化鈉及水袋置于同一容器內，并以外部侵入式擊破裝置刺破水袋，使水袋內的水流出而與固態硼氫化鈉反應產生氫氣。然而，此種以外部侵入式擊破裝置刺破水袋的方式，水袋袋體的破孔可能非常小，而無法有效進行一次性大量給水，影響產氫效率。此外，若所述容器為單一排氣口的設計，則可能因容器擺放的角度使排氣口被水堵塞，造成氫氣排放不良，使容器內壓上升而有容器殼體爆裂的危險。

美國專利編號US20060222911揭露一種氫氣產生裝置，藉由彈簧及活塞提供壓力，以驅使反應物進行反應產生氫氣。美國專利編號US20090004512揭露一種給水裝置，藉由彈簧及隔板擠壓液體而使液體進入反應腔。中國臺灣專利編號TW200607153揭露了藉由活塞或氣囊推擠燃料的技術。中國臺灣專利編號TW200904747揭露一種可攜式氫氣機，其填料口位于反應室頂端處，讓使用者便于自填料口將反應溶液與金屬物質填入反應室內，以進行化學反應產生氫氣。

【發明內容】

本發明提出一種氫氣產生裝置，具有良好的產氫效率，且可避免排氣口被堵塞，確保氫氣順利排出。

本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特征中得到進一步的了解。

為達到上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發明的一實施例提供一種氫氣產生裝置，包括殼體、容納槽及活塞。殼體具有頂壁、底壁及連接于頂壁與底壁之間的側壁。頂壁具有多個排氣口及往殼體內部突伸的凸柱。至少一排氣口貫通凸柱及頂壁，其它排氣口圍繞凸柱。容納槽連接于側壁而位于殼體內，用以容納固態反應物。容納槽將殼體內部分隔為第一腔室及第二腔室。第一腔室位于頂壁與容納槽之間。第二腔室位于底壁與容納槽之間且用以容納液態反應物。容納槽，連通第一腔室及第二腔室。活塞配置于底壁。活塞用以將液態反應物推向容納槽，而使液態反應物與固態反應物反應產生氫氣。

所述的氫氣產生裝置，其中，該容納槽具有一第一開口及一第二開口，分別連通該第一腔室及該第二腔室，該液態反應物透過該第二開口進入該容納槽。

所述的氫氣產生裝置，其中，該容納槽具有一通道，該通道連通于該第一腔室與該第二腔室之間，該氫氣透過該第二開口到達該第二腔室，并透過該通道到達該第一腔室。

所述的氫氣產生裝置，其中，該側壁為中空柱狀結構。

所述的氫氣產生裝置，其中，該側壁圍繞該第一腔室的部分的材質為透明材料。

所述的氫氣產生裝置，其中，更包括：

一罩體，配置于該頂壁上而與該頂壁共同定義出一第三腔室，其中該罩體具有一第二排氣口；以及

一過濾元件，配置于第三腔室內，其中該氫氣用以透過該些第一排氣口到達該第三腔室，并通過該過濾元件及該第二排氣口被排至外界。

所述的氫氣產生裝置，其中，該底壁具有一擋墻，連接于該底壁周緣而定義出一第四腔室，部分該活塞位于該第二腔室，另一部分該活塞位于該第四腔室。

所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一蓋體，可拆卸地配置于該擋墻而覆蓋該第四腔室。

所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一透氣不透液膜，配置于該頂壁，覆蓋貫通該凸柱及該頂壁的至少一該第一排氣口。

所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一透氣不透液膜，配置于該頂壁而覆蓋圍繞該凸柱的該些第一排氣口。

所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一過濾膜，該過濾膜覆蓋該第一開口。

所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一過濾膜，該過濾膜覆蓋該第二開口。

基于上述，在本發明的上述實施例中，藉由活塞將液態反應物往容納槽推擠，而可使液態反應物快速且大量地與容納槽內的固態反應物接觸，以提升產氫效率。此外，殼體的頂壁具有凸柱，且至少一排氣口貫通凸柱及頂壁，其它排氣口則圍繞凸柱。當液態反應物淹沒圍繞凸柱的排氣口，且凸柱底面未被液態反應物淹沒時，氫氣可透過從貫通凸柱及頂壁排氣口排出。另一方面，當氫氣產生裝置翻轉至另一角度而使液態反應物淹沒凸柱底面，且圍繞凸柱的排氣口未被液態反應物淹沒時，氫氣可透過圍繞凸柱的排氣口被排出。藉此，可以多種角度擺放氫氣產生裝置而進行氫氣的排放，并提升使用上的便利性。