[發明專利]氫氣產生裝置

有效

• 申請號: 201010622011.5
• 申請日: 2010-12-30
• 公開（公告）號: CN102556962A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 林猷翔;周柏圭;鄭再興;陸軒翌
• 申請（專利權）人: 揚光綠能股份有限公司
• 主分類號: C01B3/06
• 分類號: C01B3/06
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 蔡勝利

1.一種氫氣產生裝置，包括：

一殼體，具有一頂壁、一底壁及連接于該頂壁與該底壁之間的一側壁，其中該頂壁具有多個第一排氣口及往該殼體內部突伸的一凸柱，至少一該第一排氣口貫通該凸柱及該頂壁，其它該些第一排氣口圍繞該凸柱；

一容納槽，連接于該側壁而位于該殼體內，用以容納一固態反應物，其中該容納槽將該殼體內部分隔為一第一腔室及一第二腔室，該第一腔室位于該頂壁與該容納槽之間，該第二腔室位于該底壁與該容納槽之間且用以容納一液態反應物，該容納槽連通該第一腔室及該第二腔室；以及

一活塞，配置于該底壁，其中該活塞用以將該液態反應物推向該容納槽，使該液態反應物與該固態反應物反應產生一氫氣。

2.如權利要求1所述的氫氣產生裝置，其中，該容納槽具有一第一開口及一第二開口，分別連通該第一腔室及該第二腔室，該液態反應物透過該第二開口進入該容納槽。

3.如權利要求2所述的氫氣產生裝置，其中，該容納槽具有一通道，該通道連通于該第一腔室與該第二腔室之間，該氫氣透過該第二開口到達該第二腔室，并透過該通道到達該第一腔室。

4.如權利要求1所述的氫氣產生裝置，其中，該側壁為中空柱狀結構。

5.如權利要求1所述的氫氣產生裝置，其中，該側壁圍繞該第一腔室的部分的材質為透明材料。

6.如權利要求1所述的氫氣產生裝置，其中，更包括：

一罩體，配置于該頂壁上而與該頂壁共同定義出一第三腔室，其中該罩體具有一第二排氣口；以及

一過濾元件，配置于第三腔室內，其中該氫氣用以透過該些第一排氣口到達該第三腔室，并通過該過濾元件及該第二排氣口被排至外界。

7.如權利要求1所述的氫氣產生裝置，其中，該底壁具有一擋墻，連接于該底壁周緣而定義出一第四腔室，部分該活塞位于該第二腔室，另一部分該活塞位于該第四腔室。

8.如權利要求7所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一蓋體，可拆卸地配置于該擋墻而覆蓋該第四腔室。

9.如權利要求1所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一透氣不透液膜，配置于該頂壁，覆蓋貫通該凸柱及該頂壁的至少一該第一排氣口。

10.如權利要求1所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一透氣不透液膜，配置于該頂壁而覆蓋圍繞該凸柱的該些第一排氣口。

11.如權利要求2所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一過濾膜，該過濾膜覆蓋該第一開口。

12.如權利要求2所述的氫氣產生裝置，其中，更包括一過濾膜，該過濾膜覆蓋該第二開口。