[發明專利]被覆件及其制造方法

無效

• 申請號: 201010614747.8
• 申請日: 2010-12-30
• 公開（公告）號: CN102560350A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;熊小慶
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種被覆件及其制造方法。

背景技術

現有的鎂或鎂合金、鋁或鋁合金等低熔點材料的成型模具的材質通常為不銹鋼。然而，在高溫氧化性環境中，不銹鋼基體表面易形成疏松的氧化鉻(Cr₂O₃)層；當溫度逐漸升高，Cr₂O₃層變得不穩定并開始分解，使得不銹鋼基體內部的Fe、Ni等金屬離子向Cr₂O₃層擴散，引起Cr₂O₃層出現裂紋、剝落等氧化失效現象，大大降低了不銹鋼基體的高溫抗氧化性。

此外，所述Cr₂O₃層的形成將使成型模具表面變得粗糙，如此將影響成型產品的外觀、降低成型產品的良率，同時也會縮短成型模具的使用壽命。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種能較好的解決上述問題的被覆件。

另外，還提供上述被覆件的制造方法。

一種被覆件，包括基體、依次形成于基體上的鉻層、氮氧化鉻層及氮化鈦層。

一種被覆件的制造方法，包括以下步驟：

提供基體；

以鉻靶為靶材，于基體上磁控濺射鉻層；

以鉻靶為靶材，以氮氣及氧氣為反應氣體，于鉻層上磁控濺射氮氧化鉻層；

以鈦靶為靶材，以氮氣為反應氣體，于氮氧化鉻層上磁控濺射氮化鈦層。

本發明被覆件的制造方法，在基體上通過磁控濺射鍍膜法依次形成鉻層、氮氧化鉻層及氮化鈦層。由于在高溫氧化性條件下，所述鉻層及CrON層均可有效防止基體發生氧化，如此可有效提高所述基體的高溫抗氧化性；所述TiN層的形成可防止CrON層被刮傷，從而使所述被覆件具有良好的耐磨性。

此外，當被覆件為用于成型鎂、鎂合金、鋁或鋁合金等低熔點材料的成型模具時，所述被覆件高溫抗氧化性的提高，可提高成型產品的良率，還可延長被覆件的使用壽命。

附圖說明

圖1為本發明一較佳實施例的被覆件的剖視圖；

圖2為制造圖1中鍍膜件所用真空鍍膜機的示意圖。

主要元件符號說明

被覆件????????10

基體??????????11

鉻層??????????13

氮氧化鉻層????15

氮化鈦層??????17

鍍膜機????????100

鍍膜室????????20

真空泵????????30

軌跡??????????21

第一靶材??????22

第二靶材??????23

氣源通道??????24

具體實施方式

請參閱圖1，本發明一較佳實施例的被覆件10包括基體11、依次形成于基體11上的鉻層13、氮氧化鉻(CrON)層15及氮化鈦(TiN)層17。

所述基體11的材質為不銹鋼、模具鋼或高速鋼等。

所述被覆件10可為用于成型鎂、鎂合金、鋁或鋁合金等低熔點材料的成型模具。

所述鉻層13、CrON層15及TiN層17可分別通過磁控濺射鍍膜法形成。

所述鉻層13的厚度為100～200nm。

所述CrON層15的厚度為0.5～1μm。所述CrON層15中鉻元素的質量百分含量為40％～60％，氧元素的質量百分含量為30％～50％，氮元素的質量百分含量為5％～15％。

所述TiN層17的厚度為0.4～1.2μm。

請一并參閱圖2所示，本發明一較佳實施例的被覆件10的制造方法主要包括如下步驟：

提供一基體11。該基體11可以通過沖壓成型得到。

對該基體11進行預處理。該預處理可包括常規的對基體11進行化學除油、除蠟、酸洗、超聲波清洗及烘干等步驟。

提供一鍍膜機100，將所述基體11置于該鍍膜機100內，采用磁控濺射鍍膜法依次于基體11上形成鉻層13、CrON層15及TiN層17。