[發(fā)明專利]殼體及其制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010614540.0
• 申請(qǐng)日: 2010-12-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102560369A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;張成
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/16
• 分類號(hào): C23C14/16;C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種殼體及其制造方法。

背景技術(shù)

真空鍍膜技術(shù)(PVD)是一種非常環(huán)保的成膜技術(shù)。以真空鍍膜的方式所形成的膜層具有高硬度、高防磨性的化學(xué)穩(wěn)定性、與基體結(jié)合牢固以及亮麗的金屬外觀等優(yōu)點(diǎn)，因此真空鍍膜在鋁、鋁合金及不銹鋼等金屬基材表面裝飾性處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來(lái)越廣。

然而，由于鋁、鋁合金、鎂或鎂合金的標(biāo)準(zhǔn)電極電位很低，與PVD鍍層，如TiN層、CrN層的電位差較大，且PVD鍍層本身不可避免的會(huì)存在微小的孔隙，如針孔、裂紋，致使鋁、鋁合金、鎂或鎂合金基體易于發(fā)生微電池腐蝕。因此，直接于鋁、鋁合金、鎂或鎂合金基體表面鍍覆所述TiN層、CrN層并不能有效提高所述鋁、鋁合金、鎂或鎂合金基體的耐腐蝕性能，同時(shí)該P(yáng)VD鍍層本身也會(huì)發(fā)生異色、脫落等現(xiàn)象，難以維持良好的裝飾外觀。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于此，提供一種具有良好的耐腐蝕性的殼體。

另外，還提供一種上述殼體的制造方法。

一種殼體，包括鋁/鎂金屬基體及形成于鋁/鎂金屬基體表面的防腐蝕層，所述防腐蝕層包括依次形成于鋁/鎂金屬基體表面的鋁錳膜和氮化鋁梯度膜，所述氮化鋁梯度膜中N的原子百分含量由靠近鋁/鎂金屬基體至遠(yuǎn)離鋁/鎂金屬基體的方向呈梯度增加。

一種殼體的制造方法，包括以下步驟：

提供鋁/鎂金屬基體；

在該鋁/鎂金屬基體上磁控濺射防腐蝕層，所述防腐蝕層包括依次形成于鋁/鎂金屬基體表面的鋁錳膜和氮化鋁梯度膜，所述氮化鋁梯度膜中N原子的原子百分含量由靠近鋁/鎂金屬基體至遠(yuǎn)離鋁/鎂金屬基體的方向呈梯度增加。

所述殼體的制造方法，通過(guò)磁控濺射法于鋁/鎂金屬基體上形成防腐蝕層。所述防腐蝕層包括依次形成于鋁/鎂金屬基體表面的鋁錳膜和氮化鋁梯度膜，一方面，鋁錳膜自身有很好的耐腐蝕性能，另一方面鋁錳膜與鋁/鎂金屬基體之間的電位差小，減緩了殼體發(fā)生微電池腐蝕的速率，此外，鋁錳膜中鋁和錳的形核能不同，在鋁錳膜的形成過(guò)程中兩者之間相互抑制而使膜層的晶粒更小，膜層變得致密，從而提高了殼體的耐腐蝕性。所述氮化鋁梯度膜與鋁錳膜之間晶格不匹配的程度小，可改善與鋁/鎂金屬基體之間的界面錯(cuò)配度，并可以借助于該鋁錳膜以及鋁/鎂金屬基體的局部塑性變形實(shí)現(xiàn)殘余應(yīng)力的釋放，從而減少所述氮化鋁梯度膜內(nèi)的殘余應(yīng)力，使殼體不易發(fā)生應(yīng)力腐蝕，提高殼體耐腐蝕性。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的殼體的剖視圖。

圖2是圖1殼體的制作過(guò)程中所用鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖。

主要元件符號(hào)說(shuō)明

殼體????????????10

鋁/鎂金屬基體???11

防腐蝕層????????13

鋁錳膜??????????131

氮化鋁梯度膜????133

色彩層??????????15

鍍膜機(jī)??????????100

鍍膜室??????????20

真空泵??????????30

軌跡????????????21

靶材????????????22

氣源通道????????24

具體實(shí)施方式

請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明一較佳實(shí)施例的殼體10包括鋁/鎂金屬基體11、依次形成于該鋁/鎂金屬基體11上的防腐蝕層13及色彩層15。該殼體10可以為3C電子產(chǎn)品的殼體，也可為工業(yè)、建筑用件及汽車等交通工具的零部件等。

所述鋁/鎂金屬基體11的材質(zhì)為鋁、鋁合金、鎂或鎂合金。

所述防腐蝕層13包括鋁錳膜131和氮化鋁梯度膜133，所述鋁錳膜131形成于鋁/鎂金屬基體11的表面，所述氮化鋁梯度膜133形成于鋁錳膜131的表面。所述鋁錳膜131的厚度為1.0～3.0μm；所述氮化鋁梯度膜133的厚度為0.5～1.0μm。所述氮化鋁梯度膜中N的原子百分含量由靠近鋁/鎂金屬基體至遠(yuǎn)離鋁/鎂金屬基體的方向呈梯度增加。

所述色彩層15為氮鈦膜層，其厚度為1.0～3.0μm。可以理解，所述色彩層15還可以為氮鉻膜層或其他具有裝飾性的膜層。

所述防腐蝕層13及色彩層15均可通過(guò)磁控濺射法沉積形成。

本發(fā)明一較佳實(shí)施例的制造所述殼體10的方法主要包括如下步驟：