[發明專利]放射線敏感性組合物、固化膜及其形成方法

有效

• 申請號: 201010614014.4
• 申請日: 2010-12-17
• 公開（公告）號: CN102147570A
• 公開（公告）日: 2011-08-10
• 發明（設計）人: 鈴木康伸;上田二朗
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/075
• 分類號: G03F7/075;G03F7/00
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所 11216
• 代理人: 劉激揚

1.一種正型放射線敏感性組合物，其含有：

[A]硅氧烷聚合物、

[B]金屬氧化物顆粒、和

[C]放射線敏感性酸產生劑或放射線敏感性堿產生劑，

上述[B]金屬氧化物顆粒為選自鋁、鋯、鈦、鋅、銦、錫、銻和鈰構成的群組中的至少一種金屬的氧化物顆粒。

2.如權利要求1所述的正型放射線敏感性組合物，其中，[A]硅氧烷聚合物是下式(1)表示的水解性硅烷化合物的水解縮合物，

(R¹)_n-Si-(OR²)_4-n????(1)

在式(1)中，R¹各自獨立地為氫或碳原子數為1～20的非水解性有機基團，R²各自獨立地為氫、碳原子數為1～6的烷基、碳原子數為1～6的酰基或碳原子數為6～15的芳基，n為0～3的整數。

3.如權利要求1所述的正型放射線敏感性組合物，其中，進一步含有[D]分散劑。

4.如權利要求3所述的正型放射線敏感性組合物，其中，[D]分散劑為下式(2)、(3)或(4)表示的化合物、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、烷基葡糖苷、聚氧乙烯脂肪酸酯、蔗糖酸脂肪酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧乙烯脫水山梨糖醇脂肪酸酯或脂肪酸鏈烷醇酰胺，

在式(2)中，R³各自獨立地是C_qH_2q+1-CH₂O-(CH₂CH₂O)_p-CH₂CH₂O-，p為8～10，q為12～16，x為1～3的整數，

在式(3)中，對r和s的數字進行選擇，使通過凝膠滲透色譜求出的聚苯乙烯換算數均分子量為10000～40000，

在式(4)中，對t和u的數字進行選擇，使通過凝膠滲透色譜求出的聚苯乙烯換算數均分子量為1000～30000。

5.如權利要求1～4任一項所述的放射線敏感性組合物，其用于形成固化膜。

6.一種固化膜的形成方法，其包括：

(1)在基板上形成權利要求5所述放射線敏感性組合物涂膜的工序、

(2)在工序(1)中形成的涂膜的至少一部分中照射放射線的工序、

(3)使在工序(2)中照射了放射線的涂膜顯影的工序、和

(4)加熱在工序(3)中顯影的涂膜的工序。

7.一種固化膜，其由權利要求5所述的放射線敏感性組合物形成。