[發明專利]計算機硬盤基片拋光后用的清洗劑組合物有效
| 申請號： | 201010613494.2 | 申請日： | 2010-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN102011128A | 公開（公告）日： | 2011-04-13 |
| 發明（設計）人： | 雷紅 | 申請（專利權）人： | 上海大學 |
| 主分類號： | C23G1/00 | 分類號： | C23G1/00 |
| 代理公司： | 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 顧勇華 |
| 地址： | 200444*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 計算機 硬盤 拋光 洗劑 組合 | ||
【權利要求書】：
1.一種計算機硬盤基片拋光后用的清洗劑組合物，其特征在于該清洗劑含有ZETA電位調節劑；該清洗劑組合物具有以下的組成成分及其重量百分含量：
????表面活性劑???????????5～15%，
????ZETA電位調節劑?????2～8%，
????緩蝕劑???????????????0.2～1.5%，
????堿???????????????????0.2～2%，
????去離子水?????????????余量；
所述的表面活性劑為常規水溶性表面活性劑，包括有：十二烷基聚乙二醇、十二烷基聚乙二醇硫酸鹽、十二烷基聚聚乙二醇羧酸鹽、平平加O-20；選擇其中的任一種；
所述的ZETA電位調節劑為含有多個官能團、分子量在3000以上的高分子電解質物質，包括烷基聚氧乙烯醚多季銨鹽、烷基聚氧乙烯醚-磷酸鹽共聚物、聚氧乙烯醚磺酸鹽共聚物、聚氧乙烯醚-丙烯酰胺-磷酸鹽共聚物、聚氧乙烯醚-磷酸-磺酸鹽共聚物；選擇其中的任一種；
????所述的緩蝕劑為水溶性有機或無機緩蝕劑，它們為：十二烷基磷酸鹽、羥基苯并三氮唑、巰基噻唑鈉鹽、鉬酸鹽；選擇其中的任一種；
????所述的堿為：氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨水；選擇其中的任一種。
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