[發明專利]一種光刻機真空曝光裝置

有效

• 申請號: 201010605511.8
• 申請日: 2010-12-27
• 公開（公告）號: CN102012642A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發明（設計）人: 邢薇;胡松;趙立新;徐文祥;胡淘;陳磊
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 梁愛榮

1.一種光刻機真空曝光裝置，其特征在于包括：掩模臺(1)、掩模板(2)、硅片(3)、密封膠圈(4)、承片臺(5)、兩個氣嘴(6)、柔性鉸鏈(7)、升降臺(8)、第一氣嘴(9)和真空氣嘴(10)；掩模板(2)放在掩模臺(1)上，硅片(3)放在承片臺(5)上，密封膠圈(4)套在承片臺(5)的外側，承片臺(5)通過柔性鉸鏈(7)與升降臺(8)相連；掩摸臺(1)位于承片臺(5)上方，掩摸臺(1)上開有V形槽(11)，承片臺(5)上設有三個V形槽(121、122、123)，通過對在掩模臺(1)上的V形槽(11)與承片臺(5)上的V形槽(121、122、123)進行抽真空操作，使硅片(3)與掩摸板(2)有良好接觸。

2.根據權利要求1所述的光刻機真空曝光裝置，其特征在于：所述掩模臺(1)為正方形并在其四周設有穿透掩模臺(1)的第一V形槽(11)，第一V形槽(11)為四方形結構，第一V形槽(11)具有兩側壁，并在第一V形槽(11)的一側壁上設有一個穿透掩模臺(1)的圓孔，在穿透掩模臺(1)的圓孔口端裝有一第一氣嘴(9)供掩模臺(1)抽真空用；當掩模板(2)放在掩模臺(1)上時，掩模板(2)將掩模臺(1)上的第一V型槽(11)完全覆蓋住，并通過第一氣嘴(9)對掩模臺(1)進行抽真空，使掩摸板(2)將會被牢固的吸在掩摸臺(1)上；當掩摸板(2)與硅片(3)接觸時不會被硅片(3)頂跑、頂偏而產生位移。

3.根據權利要求1所述的光刻機真空曝光裝置，其特征在于：所述承片臺(5)外形為圓錐形。

4.根據權利要求1所述的光刻機真空曝光裝置，其特征在于：所述承片臺(5)上的三個V形槽(121、122、123)為不穿透承片臺(5)的V形槽及穿透承片臺(5)的兩個圓形孔(51、52)，在兩個圓孔(51、52)下方各固接有一個真空氣嘴(6)，以供承片臺(5)抽真空用，硅片(3)放在承片臺(5)上面時，會將承片臺(5)表面上的三個第二V形槽遮蓋住，此時，通過兩個真空氣嘴(6)對承片臺(5)進行抽真空，硅片(3)將會被牢固的吸在承片臺(5)上，當硅片(3)與掩模板(2)接觸時不會產生位移。

5.根據權利要求1所述的光刻機真空曝光裝置，其特征在于：所述密封膠圈(4)是套在圓形承片臺(5)的外側，并密封膠圈(4)略高于承片臺(5)，密封膠圈(4)高度的余量既要保證硅片(3)在上升貼近掩模臺(1)時密封膠圈(4)的膠皮不起皺打折，使硅片(3)與掩模板(2)有良好接觸，又要保證膠皮在貼近掩模臺(1)時翻開并與掩模臺(1)貼緊有良好的密封性，在通過真空氣嘴(10)抽真空時保證掩模板(2)與硅片(3)之間有足夠的真空度，并且密封膠圈(4)也可以防止硅片(3)與掩模臺(1)的硬接觸而損壞硅片(3)。

6.根據權利要求1所述的光刻機真空曝光裝置，其特征在于：所述掩模板(2)被抽真空后是固定不動的，所以，當硅片(3)上行與掩模板(2)接觸時，通過柔性鉸鏈(7)的自然擺動而自動的調整硅片(3)與掩模板(2)接觸的平整度。

7.根據權利要求3所述的光刻機真空曝光裝置，其特征在于：所述的承片臺(5)上的三個V形槽(121、122、123)是360°環形結構，且之間通過十字槽將它們相互溝通。

8.根據權利要求3所述的光刻機真空曝光裝置，其特征在于：所述三個V形槽(121、122、123)的數量N，根據硅片的尺寸大小確定N≥3個。