[發明專利]鈦/氮化鈦納米復合硬質薄膜的制備方法無效

申請號：	201010600151.2	申請日：	2010-12-21
公開（公告）號：	CN102051598A	公開（公告）日：	2011-05-11
發明（設計）人：	毛啟明;牟海川;姜來新	申請（專利權）人：	上海納米技術及應用國家工程研究中心有限公司
主分類號：	C23C16/44	分類號：	C23C16/44;C23C16/06;C23C16/34
代理公司：	上海東方易知識產權事務所 31121	代理人：	唐莉莎
地址：	200241 ***	國省代碼：	上海;31
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摘要：
搜索關鍵詞：	氮化納米復合硬質薄膜制備方法
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【權利要求書】：

1.鈦/氮化鈦納米復合硬質薄膜的制備方法，將經過清洗干燥的工件放入原子層沉積設備的成膜室中，在100～200℃的條件下，沉積一層厚度為80～200nm的鈦薄膜，并降至室溫；取出工件放入濃度為0.05mol/L氫氟酸和0.01mol/L的硝酸混合溶液中，超聲浸泡0.5～2分鐘，清洗工件表面并干燥，利用原子層沉積的方法，在溫度為150～280℃的條件下，在工件表面沉積一層厚度為50～150nm厚的氮化鈦薄膜。

2.根據權利要求1所述的鈦/氮化鈦納米復合硬質薄膜的沉積方法，其特征在于，所述工件為單質金屬、或硬質合金、或高速鋼。

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