[發(fā)明專利]觸摸屏面板及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010595920.4
• 申請(qǐng)日: 2010-12-16
• 公開（公告）號(hào): CN102163095A
• 公開（公告）日: 2011-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 全雨植
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 郭鴻禧;李娜娜

本申請(qǐng)要求于2010年2月22日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2010-0015702號(hào)韓國(guó)專利申請(qǐng)的權(quán)益，該申請(qǐng)的公開通過引用包含于此。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明的各方面涉及一種設(shè)置到圖像顯示裝置等的觸摸屏面板及其制造方法。

背景技術(shù)

觸摸屏面板是允許利用用戶的手或物體通過選擇顯示在諸如圖像顯示裝置的屏幕上的指令內(nèi)容來輸入用戶的指令的輸入裝置。

對(duì)此，觸摸屏面板形成在圖像顯示裝置的正面上，以將接觸位置轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。這里，用戶的手或物體在接觸位置與觸摸屏面板直接接觸。因此，在接觸位置選擇的指令內(nèi)容作為輸入信號(hào)而輸入到圖像顯示裝置。

由于這種觸摸屏面板可以代替單獨(dú)的、連接到圖像顯示裝置的輸入裝置(例如，鍵盤或鼠標(biāo))來使用，所以觸摸屏面板的使用增加。觸摸屏面板分為電阻式覆蓋(resistive?overlay)觸摸屏面板、光敏式觸摸屏面板、電容式觸摸屏面板等。在這些觸摸屏面板中，當(dāng)用戶的手或物體與電容式觸摸屏面板接觸時(shí)，該觸摸屏面板通過感測(cè)形成在導(dǎo)電感測(cè)圖案與相鄰的感測(cè)圖案或地電極等之間的電容變化而將接觸位置轉(zhuǎn)換為電信號(hào)。

對(duì)此，電容式觸摸屏面板包括形成為沿著第一方向連接的第一感測(cè)圖案和形成為沿著第二方向連接的第二感測(cè)圖案，從而可以檢測(cè)到用戶的手或物體的接觸位置的坐標(biāo)。第一感測(cè)圖案和第二感測(cè)圖案由相同的材料并且在同一層中形成，從而觸摸屏面板可以具有更為均勻的靈敏性。

然而，在這種情況下，通過不同的工藝形成沿第一方向連接第一感測(cè)圖案的第一連接圖案和沿第二方向連接第二感測(cè)圖案的第二連接圖案，以防止第一連接圖案和第二連接圖案短路。例如，在將第一感測(cè)圖案和第二感測(cè)圖案圖案化的工藝中同時(shí)形成與第一感測(cè)圖案一體的第一連接圖案，而在另一工藝(例如，形成位置檢測(cè)線的工藝)中形成連接第二感測(cè)圖案的第二連接圖案。

然而，在將第一感測(cè)圖案、第二感測(cè)圖案和第一連接圖案圖案化的工藝、將第二連接圖案和位置檢測(cè)線圖案化的工藝、將使第一連接圖案和第二連接圖案絕緣的絕緣層圖案化的工藝以及在其他相關(guān)的工藝中需要執(zhí)行掩模工藝。因此，觸摸屏面板的制造工藝復(fù)雜，因此，降低了觸摸屏面板的制造效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的各方面提供了一種觸摸屏面板及其制造方法，可以通過減少掩模工藝的數(shù)量來簡(jiǎn)化工藝并可確保穩(wěn)定性。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種觸摸屏面板的制造方法，所述方法包括以下步驟：在透明基底的同一表面上順序地形成透明電極層和絕緣層；利用半色調(diào)掩模將透明電極層和絕緣層共圖案化，從而形成沿著第一方向連接的多個(gè)第一感測(cè)圖案、具有在所述多個(gè)第一感測(cè)圖案之間的分開的圖案的多個(gè)第二感測(cè)圖案及位于第一感測(cè)圖案和第二感測(cè)圖案上以暴露第二感測(cè)圖案的部分區(qū)域的絕緣層；在形成有第一感測(cè)圖案、第二感測(cè)圖案和絕緣層的透明基底上形成導(dǎo)電層；將導(dǎo)電層圖案化，從而形成允許通過第二感測(cè)圖案的暴露區(qū)域沿著第二方向連接的第二連接圖案。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，利用半色調(diào)掩模將透明電極層和絕緣層共圖案化的步驟可以包括：利用所述半色調(diào)掩模在絕緣層上形成具有第一高度和低于第一高度的第二高度的光致抗蝕劑；通過蝕刻工藝去除形成在除了光致抗蝕劑的下部之外的其他區(qū)域的透明電極層和絕緣層；通過蝕刻工藝和灰化工藝去除具有第二高度的光致抗蝕劑和位于光致抗蝕劑下方的絕緣層；通過灰化工藝去除殘留在絕緣層上的光致抗蝕劑。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，通過蝕刻工藝去除形成在除了光致抗蝕劑的下部之外的其他區(qū)域的透明電極層和絕緣層的步驟可以包括：通過干蝕刻工藝去除絕緣層，然后通過濕蝕刻工藝去除透明電極層，其中，對(duì)透明電極層進(jìn)行過蝕刻，直到透明電極層的側(cè)面比絕緣層的側(cè)面更靠?jī)?nèi)。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，在利用半色調(diào)掩模將透明電極層和絕緣層共圖案化的步驟中，允許第一感測(cè)圖案沿著第一方向連接的第一連接圖案可以與第一感測(cè)圖案一體地形成。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，在將導(dǎo)電層圖案化的步驟中，將第一感測(cè)圖案和第二感測(cè)圖案連接到外部驅(qū)動(dòng)電路的位置檢測(cè)線可以與第二連接圖案同時(shí)形成。