[發明專利]晶圓代工機臺超純水回收方法及系統無效
| 申請號： | 201010593415.6 | 申請日： | 2010-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN102184841A | 公開（公告）日： | 2011-09-14 |
| 發明（設計）人： | 吳海岑 | 申請（專利權）人： | 無錫華潤上華半導體有限公司;無錫華潤上華科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/02 | 分類號： | H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 宋松 |
| 地址： | 214028 江蘇省無*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 代工 機臺 超純水 回收 方法 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種晶圓代工機臺超純水回收方法，其特征在于：對晶圓代工機臺外輸廢水采用傳感器檢測其水質，經控制系統判斷后控制閥門使相應管路導通，使符合超純水回收標準的進入超純水回收系統；否則進入廢水處理系統。
2.根據權利要求1所述的一種晶圓代工機臺超純水回收方法，其特征在于：所述傳感器采用電導率計或PH計。
3.根據權利要求1所述的一種晶圓代工機臺超純水回收方法，其特征在于：所述控制系統在現場采用PLC作為控制器，數據可上傳至中控室SCADA系統。
4.一種采用權利要求1所述方法的晶圓代工機臺超純水回收系統，其特征在于：包括檢測水質的傳感器、控制系統、控制閥門和分別與超純水回收系統和廢水處理系統相連的并聯管路，控制系統根據傳感器測得的數據控制閥門，使晶圓代工機臺外輸廢水進入相應的管路；
所述傳感器采用電導率計或PH計；
所述控制系統在現場采用PLC作為控制器；
所述控制閥門為氣動閥或電動閥；
所述廢水為氨氮廢水、含氟廢水或一般酸廢水。
5.根據權利要求4所述的晶圓代工機臺超純水回收系統，其特征在于：所述晶圓代工機臺為Wet?bench、CMP或Diff的tuber?washer、parts?clean機臺。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
